[實用新型]噴墨記錄設備有效
| 申請號: | 201220505346.3 | 申請日: | 2012-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN202895930U | 公開(公告)日: | 2013-04-24 |
| 發明(設計)人: | 川俁范幸 | 申請(專利權)人: | 兄弟工業株式會社 |
| 主分類號: | B41J13/00 | 分類號: | B41J13/00;B41J2/01 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 黃剛;車文 |
| 地址: | 日本愛知*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴墨 記錄 設備 | ||
1.一種噴墨記錄設備,其特征在于所述噴墨記錄設備包括:
輸送輥,所述輸送輥被設置在輸送路徑中,通過所述輸送路徑引導記錄介質,并且所述輸送輥被構造成沿所述輸送路徑在輸送方向上輸送所述記錄介質;
從動輥,所述從動輥與所述輸送輥相對設置,以將所述記錄介質夾在所述從動輥和所述輸送輥之間,從而沿所述輸送路徑輸送所述記錄介質,同時,基于被夾在所述從動輥和所述輸送輥之間的所述記錄介質的厚度,所述從動輥在接離方向上移動,從而接近或離開所述輸送輥;
第一偏壓構件,所述第一偏壓構件將所述從動輥偏壓至所述輸送輥;
壓盤,所述壓盤被設置在所述輸送路徑的下方,且被設置在所述輸送輥的沿所述輸送方向的下游側上,并且所述壓盤被構造成支撐通過所述輸送路徑輸送的所述記錄介質;
記錄部分,所述記錄部分被設置在所述輸送路徑的上方,從而所述記錄部分面對所述壓盤,并且所述記錄部分被構造成從噴嘴噴射墨滴,以在被支撐在所述壓盤上的所述記錄介質上記錄圖像;以及
協作部分,所述協作部分被構造成隨著所述從動輥在所述接離方向上的移動而移動,以移動所述壓盤。
2.根據權利要求1所述的噴墨記錄設備,其特征在于所述協作部分包括:
支撐構件,所述支撐構件可旋轉地支撐所述從動輥,并且所述支撐構件與所述從動輥一體移動;
接觸部分,所述接觸部分被設置在所述壓盤上,并且所述接觸部分被構造成與所述支撐構件接觸;
被接觸部分,所述被接觸部分被設置在所述支撐構件上,以被所述接觸部分接觸;以及
第二偏壓構件,所述第二偏壓構件將所述壓盤偏壓至所述支撐構件;并且
由于所述被接觸部分擠壓所述接觸部分,所述壓盤抵抗所述第二偏壓構件的偏壓力而移動。
3.根據權利要求2所述的噴墨記錄設備,其特征在于所述噴墨記錄設備還包括排出輥,所述排出輥被設置在所述輸送路徑的下方,且被設置在所述壓盤的沿所述輸送方向的下游側上,并且所述排出輥被構造成在所述輸送方向上輸送所述記錄介質,
其中所述壓盤被構造成繞所述排出輥的軸旋轉;并且
所述接觸部分被設置在所述壓盤的旋轉端部上。
4.根據權利要求2所述的噴墨記錄設備,其特征在于所述接觸部分和所述被接觸部分分別包括在與所述輸送方向垂直的寬度方向上間隔開的多個接觸部分和多個被接觸部分;并且
所述第二偏壓構件包括被設置在所述寬度方向上與所述接觸部分及所述被接觸部分面對的位置中的多個第二偏壓構件。
5.根據權利要求4所述的噴墨記錄設備,其特征在于分別從所述壓盤的沿所述寬度方向的中央部分對稱地設置所述多個接觸部分、所述多個被接觸部分和所述多個第二偏壓構件。
6.根據權利要求1所述的噴墨記錄設備,其特征在于所述噴墨記錄設備還包括:
多個保持部分,所述多個保持部分在與所述輸送方向垂直的寬度方向上分開設置,并且所述多個保持部分被設置在位于所述噴嘴的沿所述輸送方向的上游側的與所述壓盤面對的位置中,并且所述多個保持部分被構造成與被支撐在所述壓盤上的所述記錄介質的圖像記錄表面接觸;以及
凸起,所述凸起被設置在所述壓盤的上表面上,從而在所述多個保持部分中的沿所述寬度方向的一對保持部分之間的位置中,所述凸起向上突出到所述保持部分的下端的上方。
7.根據權利要求6所述的噴墨記錄設備,其特征在于所述凸起包括多個凸起,所述多個凸起中的每個凸起被設置在所述多個保持部分中的相應一對保持部分之間。
8.根據權利要求6所述的噴墨記錄設備,其特征在于所述凸起延伸直到所述保持部分的沿所述輸送方向的下游側。
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