[實用新型]一種研缽

有效

• 申請號: 201220501446.9
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN202983815U
• 公開（公告）日: 2013-06-12
• 發明（設計）人: 邢征
• 申請（專利權）人: 邢征
• 主分類號: B02C19/08
• 分類號: B02C19/08
• 代理公司: 北京航忱知識產權代理事務所(普通合伙) 11377
• 代理人: 張華

技術領域

本實用新型涉及研缽的改進，具體涉及一種研缽。?

背景技術

研缽是實驗中研碎固體材料的常用容器，配有缽杵（或稱缽錘），用于研磨固體物質或進行粉末狀固體的混和，其規格用口徑的大小表示。常用的為瓷制品，研缽也有玻璃、瑪瑙、氧化鋁、鐵的制品，這些研缽使用過久，容易破損，使得物料中產生雜質。?

目前市場上常用的研缽，由于缽體底部較平坦，使缽體與缽錘接觸不夠緊密，通常是缽錘上的一點與缽體的內表面之間的點和面的接觸，缽體與缽錘的接觸面積較小，物料要研磨很長時間才能達到預期效果，研磨效率低。?

發明內容

為了解決現有研缽研磨效率低，勞動強度大，研磨過程產生雜質的缺點，本發明提供一種研缽。本發明提供的研缽形狀和構造巧妙，研磨效率高，省時省力，適用于研磨固體粉末或漿料。另外，本發明提供的研缽采用高純度的剛玉材料，研磨過程不會產生雜質，污染物料。?

為了解決上述技術問題，本發明采用下述技術方案：?

一種研缽，所述研缽包括缽體和缽錘，所述缽錘包括錘頭和錘柄；所述錘頭為球形錘頭，所述錘頭的底面為半球形；所述缽體包括缽體壁，所述缽體中部設有突起，所述突起為圓柱形，所述突起的底部的外表面為平滑的曲面，所述缽體壁的底部的內表面為平滑的曲面，所述缽體壁內表面與所述突?起外表面之間形成環形軌道（即兩個曲面相連接形成所述環形軌道的底部）；所述環形軌道的底部為向下凹陷的曲面，所述環形軌道為圓環形軌道，所述圓環形軌道的底部的曲面橫截面為半圓形，使得所述圓環形軌道的底部與所述球形錘頭的半個球面相適配。?

上述缽錘的球形錘頭的下半個球面與所述圓環形軌道的半圓形底部形狀相配合。制備過程中利用金剛砂研磨，制得高精密配合的球形錘頭和圓環形軌道底部的半圓形曲面，在研磨過程中，錘頭的下半個球面與圓環形軌道的底部的半圓形曲面之間填充滿物料，錘頭的下半個球面全起到了研磨作用。?

優選的，所述環形軌道底部的橫截面的半圓形的半徑為R₂，所述球形錘頭的半徑為R₁，R₂-R₁的范圍為0.01-0.5mm。R₂-R₁的差為0.01mm、0.05mm、0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm。優選的，R₂-R₁=0.1-0.5mm。?

缽體中部的突起可避免在研磨過程中，物料集中在缽體的中部，影響研磨效率。所述圓環形軌道的底部的曲面橫截面為半圓形，使得所述圓環形軌道的底部與所述球形錘頭的半個球面相適配，增大了研磨過程中缽錘與缽體內表面的接觸幾率。所述曲面與所述球形錘頭的間隙較小，進一步提高了缽錘與缽體內表面的接觸幾率。因此，缽體底部的曲面增大了缽錘與缽體的接觸面積，進而增大了研磨面積，提高了研磨效率。研磨過程中所述圓環形軌道的底部的曲面與所述球形錘頭的間隙內填充物料，缽錘與缽體的接觸面積越大，研磨面積越大，研磨效率越高。可根據研磨的物料的粒徑要達到的要求，來確定R₂與R₁的差。研磨后的物料的粒徑越小，R₂與R₁的差越小。?

優選的，所述環形軌道的橫截面為U形。?

進一步優選的，所述圓柱形突起與缽體壁等高。?

所述缽體和缽錘由耐磨材料制成。耐磨材料包括高純度剛玉（又稱耐磨陶瓷）、碳化硅、耐磨鋼等。?

進一步的，所述缽體和缽錘的材料為剛玉，所述剛玉為高純度剛玉；所述剛玉中Al₂O₃的含量為86-100%。優選的，所述剛玉中Al₂O₃的含量為90%、?95%、98%、99%，最優選的，所述剛玉中Al₂O₃的含量為99%以上。?

與現有技術相比，本發明提供的研缽采用剛玉材料，研磨過程不會產生雜質，污染加工的材料；而且研缽形狀和構造巧妙，缽體與缽錘之間的配合精準，使缽錘與物料之間的接觸由原來點和面的接觸方式變為面和面的接觸方式，缽錘與物料之間用來研磨的面積增大，進而提高了研磨效率，省時省力，并且，研磨出的固體粉末的細度達到1-50um，甚至更高細度。另一方面，本發明提供的研缽可配合電動機構進行機械研磨。?

附圖說明

圖1為本發明提供的研缽的缽體結構示意圖；?

圖2為圖1所示缽體俯視結構示意圖；?