[實用新型]雙螺旋加熱線圈盤

有效

• 申請號: 201220491374.4
• 申請日: 2012-09-24
• 公開（公告）號: CN202873110U
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發明（設計）人: 萬宇
• 申請（專利權）人: 萬宇
• 主分類號: H05B6/44
• 分類號: H05B6/44;F24C7/06
• 代理公司: 佛山市粵順知識產權代理事務所 44264
• 代理人: 唐強熙

1.一種雙螺旋加熱線圈盤，包括線圈盤支架（1），線圈盤支架的頂部設置有漸開式的繞線槽（3），加熱線圈（2）繞在其上,其特征是線圈盤支架內外圈之間的繞線槽的密度變化為漸變式；加熱線圈由內加熱線圈盤（2.1）和外加熱線圈盤（2.2）串聯連接組成，呈雙螺旋形式繞在繞線槽內。

2.根據權利要求1所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述線圈盤支架（1）內外圈之間的的繞線槽（3）的密度，從線圈盤支架的內圈到外圈，繞線槽的排列由密漸疏再變密。

3.根據權利要求2所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述加熱線圈（2）的內加熱線圈盤（2.1）相鄰兩圈的間距，從內加熱線圈盤的內圈到外圈，間距由小到大；所述加熱線圈的外加熱線圈盤（2.2）相鄰兩圈的間距，從外加熱線圈盤的內圈到外圈，間距由大到小；內加熱線圈盤的最外圈與外加熱線圈盤的最內圈串聯連接形成雙螺旋形式的加熱線圈。

4.根據權利要求3所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述加熱線圈（2）繞線的稀密間距方程式，加熱線圈的線寬的1/2定義為a，加熱線圈的半徑定義為b，加熱線圈的內孔半徑定義為c，同時對笛卡爾坐標系，輸入參數方程，根據t（從0到1）對螺旋線終點到圓心的距離r,旋轉角度theta,螺旋線旋轉的高度z；有內加熱線圈盤（2.1）的參數方程為：r=a*t*t*t+c，theta=t*(n*360)，z=0；外加熱線圈盤（2.2）的參數方程為：r=b-a*t*t*t，theta=t*(n*360)，z=0。

5.根據權利要求3所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述加熱線圈（2）的圈數為8-16圈，加熱線圈相鄰兩圈之間的間距為0-8mm；所述加熱線圈為層疊裝配的1-3層線圈盤結構。

6.根據權利要求5所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述加熱線圈（2）為1層線圈盤結構時，加熱線圈直接從當前圈繞到下一圈；加熱線圈為2-3層線圈盤結構時，加熱線圈在每繞完一圈，將跳繞回當前圈起始點的最下層，直到當前圈的層數與加熱線圈層數一致后繼續繞下一圈，每圈的多層加熱線圈相串聯。

7.根據權利要求1-6任一項所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述線圈盤支架（1）的底部和繞線槽（3）的頂部兩側均一體成型有若干個尖頭凸起（4）。

8.根據權利要求7所述的雙螺旋加熱線圈盤，其特征是所述線圈盤支架（1）的直徑為120-240mm。