[實(shí)用新型]金屬化膜抽真空用盛放裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220486898.4 | 申請(qǐng)日： | 2012-09-18 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN202849528U | 公開(kāi)（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 莢朝輝;康仙文 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 銅陵其利電子材料有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/02 | 分類號(hào)： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 安徽信拓律師事務(wù)所 34117 | 代理人： | 婁爾玉 |
| 地址： | 244000 *** | 國(guó)省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 金屬化 真空 盛放 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.金屬化膜抽真空用盛放裝置，包括一上端面敞開(kāi)的盒體，其特征在于：所述盒體的側(cè)壁上均勻的開(kāi)有槽型孔，所述盒體的底部設(shè)有兩排通孔，所述的通孔均勻的設(shè)置于盒體底部上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬化膜抽真空用盛放裝置，其特征在于：所述的通孔為矩形孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬化膜抽真空用盛放裝置，其特征在于：所述的盒體為一金屬盒體。
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
