[實用新型]用于流體控制裝置監測的設備

有效

• 申請號: 201220483614.6
• 申請日: 2012-09-18
• 公開（公告）號: CN203099057U
• 公開（公告）日: 2013-07-31
• 發明（設計）人: B·里斯比;M·西蒙斯;J·弗羅伊德;B·拉方添;B·佩寧
• 申請（專利權）人: 通用設備和制造公司
• 主分類號: F16K37/00
• 分類號: F16K37/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 鄭立柱

本申請大體上涉及一種流體控制裝置，更具體地，涉及一種用于流體控制裝置監測的設備。?

傳感器被用來確定實際的閥門位置。基于傳感器讀數，傳感器輸出一個值，該值可用來控制閥門的位置。?

根據本公開的教導的一個示例性設備包括主體，軸延伸穿過所述主體。所述軸被耦接到致動器。所述軸的角位置基于所述致動器的位置。所述設備包括耦接到所述軸的標靶以及包括使用者可配置的開關和接近開關的電路。所述使用者可配置的開關可被配置到第一狀態或第二狀態。當所述使用者可配置的開關處于第一狀態并且所述標靶遠離所述接近開關時，所述電路將輸出第一信號。當所述使用者可配置的開關處于第二狀態并且所述標靶遠離所述接近開關時，所述電路將輸出不同于所述第一信號的第二信號。?

根據本公開的教導的另一示例性設備包括電阻器和第一開關、第二開關。所述電阻器與所述第一開關、所述第二開關并聯。所述第一開關與所述第二開關串聯。所述第一開關響應于標靶，并且所述第二開關響應于使用者輸入。當所述標靶接近所述第一開關或當所述標靶遠離所述第一開關時，所述設備的輸出基于所述使用者輸入而改變。?

圖1是用來監測流體控制裝置的示例性設備的示意圖；?

圖1是用來監測流體控制裝置的示例性設備的示意圖；?

圖2是能夠用來實施圖1中的示例性設備的示例性電路的示意圖。?

上面的附圖中示出了一些實施例，并將在下面進行詳細描述。在描述這些實施例時，相似或相同的附圖標記用來表示相似或相同的元件。為了清楚和/或簡明，這些附圖不需要按比例繪制，附圖的某些特征和某些視圖可以按比例放大顯示或概略顯示。此外，在整個說明書中已經描述了數個實施例。任一實施例的任何特征可與其它實施例的其它特征包括在一起，或被其代替或與其它實施例的其它特征結合。?

這里描述的實施例涉及用于流體控制裝置監測的可配置的Namur接口電路和/或閥門頂部監測系統。如果標靶存在，電流輸出根據示例性電路的配置而增加或減小。因此，當標靶存在或不存在時，單個設備可用在具有不同電氣要求的應用中，同時輸出標準的Namur開關電流強度。在一些實施例中，該接口電路提供具有Exna認證的Namur輸出，從而不需要額外的固有安全屏障。?

在一些實施例中，Namur電路包括場效應晶體管(FET)、第一和第二電阻器、使用者可配置的開關和接近傳感器(例如，機械式接近開關)。為了基于相同的接近傳感器讀數來提供不同的結果(例如，高或低電流輸出)，使用者可配置的開關響應于使用者的設置。例如，如果該使用者可配置的開關處于第一狀態和/或設置并且接近傳感器處于正常關閉的位置，輸出電流可以是第一值或較高的值(例如，3毫安和/或大于3毫安)。但是，如果當接近開關處于正常關閉的位置時，使用者可配置的開關處于第二狀態和/或設置，輸出電流可以是第二值和/或較低的值(例如，1毫安和/或小于3毫安)。?

圖1示出了示例性設備100，一個或多個設備100用來監測流體控制裝置的位置。設備100包括殼體102，位置監測器(例如，閥門?位置監測器)104安裝在殼體102內。位置監測器104包括延伸穿過殼體102的軸105和安裝在殼體102內的電路(例如，恒定電流電路)106。開關108和開關和/或傳感器110被耦接到電路106。在其它實施例中，電路106不再處于開關108和/或開關110的外部，電路106可與開關108和/或開關110集成一體。?

圖1示出了示例性設備100，一個或多個設備100用來監測流體控制裝置的位置。設備100包括殼體102，位置監測器(例如，閥門?位置監測器)104安裝在殼體102內。位置監測器104包括延伸穿過殼體102的軸105和安裝在殼體102內的電路(例如，恒定電流電路)106。開關108和開關和/或傳感器110被耦接到電路106。在其它實施例中，電路106不再處于開關108和/或開關110的外部，電路106可與開關108和/或開關110集成一體。?