[實(shí)用新型]移相器及天線有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220476255.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-09-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN202797194U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-03-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉新明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華為技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01P1/18 | 分類號(hào): | H01P1/18;H01Q3/32 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 移相器 天線 | ||
1.一種移相器,包括:旋轉(zhuǎn)臂以及與所述旋轉(zhuǎn)臂耦合相接的弧臂其特征在于,所述弧臂的外圍套設(shè)有絕緣介質(zhì),所述弧臂包括第一帶線,
所述第一帶線的外邊沿處設(shè)置有若干個(gè)具有折彎的第一固定件,所述第一固定件卡在所述絕緣介質(zhì)的上殼體與下殼體之間,或者,
所述第一帶線的外邊沿設(shè)置有若干個(gè)凸出的第一卡塊,所述第一卡塊延伸至所述絕緣介質(zhì)的側(cè)面的殼體中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的移相器,其特征在于,所述弧臂還包括第二帶線,所述第二帶線的外邊沿處均設(shè)置有若干個(gè)具有折彎的第二固定件,所述第二固定件卡在所述絕緣介質(zhì)的上殼體與下殼體之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的移相器,其特征在于,在所述第一帶線的外邊沿處設(shè)置若干個(gè)具有折彎的第一固定件時(shí),所述第二固定件的彎折的方向與所述第一固定件的彎折的方向相反。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的移相器,其特征在于,所述弧臂還包括第二帶線,所述第二帶線的外邊沿設(shè)置有若干個(gè)凸出的第二卡塊,所述第二卡塊延伸至所述絕緣介質(zhì)的側(cè)面的殼體中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4所述的移相器,其特征在于,所述弧臂還包括有至少一條第三帶線,所述第三帶線設(shè)置于所述第一帶線和所述第二帶線之間,所述第三帶線的外邊沿處均設(shè)置有若干個(gè)“T”形固定件,所述“T”形固定件卡在所述絕緣介質(zhì)的上殼體與下殼體之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4所述的移相器,其特征在于,所述弧臂還包括有至少一條第三帶線,所述第三帶線設(shè)置于所述第一帶線和所述第二帶線之間,所述第三帶線的外邊沿設(shè)置有若干個(gè)凸出的第三卡塊,所述第三卡塊延伸至所述絕緣介質(zhì)的側(cè)面的殼體中。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4所述的移相器,其特征在于,所述弧臂還包括有至少一條第三帶線,所述第三帶線設(shè)置于所述第一帶線和所述第二帶線之間,所述第三帶線的外邊沿處均設(shè)置有至少兩個(gè)具有折彎的第三固定件,且至少有一個(gè)所述第三固定件的彎折方向與其它所述第三固定件的彎折方向相反。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的移相器,其特征在于,所述絕緣介質(zhì)的側(cè)面的殼體上開(kāi)設(shè)有凹槽,所述第一卡塊延伸并固定在所述凹槽中。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的移相器,其特征在于,所述第一固定件的形狀為“L”形或者“C”形。
10.一種天線,其特征在于,所述天線包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的移相器。
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