[實用新型]一種雙向平動機構及區熔單晶爐

有效

• 申請號: 201220471427.6
• 申請日: 2012-09-14
• 公開（公告）號: CN202808993U
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發明（設計）人: 袁靜;張繼宏;徐振斌
• 申請（專利權）人: 北京京運通科技股份有限公司
• 主分類號: C30B13/26
• 分類號: C30B13/26;C30B13/00
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

技術領域

本實用新型涉及區熔單晶硅生長設備技術領域，特別涉及一種雙向平動機構及區熔單晶爐。

背景技術

區熔單晶硅在被應用到微波通訊、雷達、導航、測控、醫學、高功率電站等領域之前，都需要經過摻雜，調整晶體內部的電阻率。目前使用的摻雜技術主要為中子嬗變摻雜和氣相摻雜。中子嬗變摻雜的準確率高，但是摻雜是一個核反應過程，還需要消除放射性處理及熱處理，增加工序的同時提高了區熔硅單晶的成本。另外的一種摻雜方法是氣相摻雜，直接在晶體生長的過程中將摻雜劑通過保護氣體摻雜到晶體內部。

但是，目前氣相摻雜電阻率的端面均一性不是特別好，主要原因之一是受限于工藝設備。現有技術的區熔單晶爐中，上傳動的上軸只可以沿前后方向進行往復運動，或者只能沿左右方向進行往復運動，而不能同時實現前后左右四個方向的運動，因此攪拌熔區不充分，氣相摻雜的端面均勻性很難提高，晶體的高品質難以保證。

另外，在拉制大直徑硅單晶時，需要保證原料多晶硅棒和加熱線圈一直保持同心，傳統的機構中，只有一個方向可以自動調整，另一個方向必需要在停爐時手動調整，操作很不方便。

實用新型內容

本實用新型提供一種用于區熔單晶爐的雙向平動機構，能夠實現區熔單晶爐上傳動中的上軸多個方向上的運動，進而實現上軸在多個方向上對硅晶的熔區進行攪拌，同時可以在拉晶時根據需要隨時調整上傳動的上軸的位置，操作方便，實現上傳動的上軸自動對中，提高拉制單晶硅的成品率和氣相摻雜的端面均勻性，保證晶體的高品質。

為達到上述目的，本實用新型提供以下技術方案：

一種用于區熔單晶爐的雙向平動機構，包括：

平動下板，固定于所述區熔單晶爐的上爐室；

平動中板，與所述平動下板滑動裝配；

平動上板，與所述區熔單晶爐的上傳動固定連接，且與所述平動中板滑動裝配；

驅動所述平動中板滑動的第一驅動裝置，與所述平動下板相對固定；

驅動所述平動上板滑動的第二驅動裝置，與所述平動中板相對固定；

所述平動中板相對所述平動下板的滑動方向與所述平動上板相對所述平動中板的滑動方向相互交叉；

所述平動上板、所述平動中板和所述平動下板均具有貫穿其厚度方向的通孔。

優選地，所述平動中板相對所述平動下板的滑動方向與所述平動上板相對所述平動中板的滑動方向相互垂直。

優選地，所述平動中板與所述平動下板之間通過至少一對相互配合的滑槽和軌道滑動裝配。

優選地，所述平動上板與所述平動中板之間通過至少一對相互配合的滑槽和軌道滑動裝配。

優選地，所述平動中板、所述平動下板之間的滑槽和軌道為兩對。

優選地，所述平動上板、所述平動中板之間的滑槽和軌道為兩對。

優選地，所述驅動裝置為電機，所述電機的輸出端通過減速器和滾珠絲杠副驅動所述平動上板和所述平動中板運動。

優選地，所述平動上板具有的通孔的內表面與上傳動的上軸外表面相互貼合。

本實用新型還提供了一種區熔單晶爐，包括上爐室和上傳動，還包括上述技術中提到的雙向平動機構。

本實用新型提供的一種用于區熔單晶爐的雙向平動機構，包括：

平動下板，固定于所述區熔單晶爐的上爐室；

平動中板，與所述平動下板滑動裝配；

平動上板，與所述區熔單晶爐的上傳動固定連接，且與所述平動中板滑動裝配；

驅動所述平動中板滑動的第一驅動裝置，與所述平動下板相對固定；

驅動所述平動上板滑動的第二驅動裝置，與所述平動中板相對固定；

所述平動中板相對所述平動下板的滑動方向與所述平動上板相對所述平動中板的滑動方向相互交叉；

所述平動上板、所述平動中板和所述平動下板均具有貫穿其厚度方向的通孔。