[實(shí)用新型]滾花裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220469685.0
• 申請(qǐng)日: 2012-09-14
• 公開（公告）號(hào): CN203004917U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚力軍;相原俊夫;大巖一彥;潘杰;王學(xué)澤;汪濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波江豐電子材料有限公司
• 主分類號(hào): B44B5/02
• 分類號(hào): B44B5/02
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種機(jī)械領(lǐng)域，尤其涉及一種滾花裝置。?

背景技術(shù)

物理氣相沉積（PVD，Physical?Vapor?Deposition）是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片，氬離子在電場的作用下加速轟擊濺射基臺(tái)上的靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子（或分子）沉積在基片上成膜，而最終達(dá)到對(duì)基片表面鍍膜的目的。?

圖1為物理氣相沉積中離子金屬等離子體設(shè)備示意圖。參照?qǐng)D1所示，設(shè)備110是離子金屬等離子體（IMP）設(shè)備，其包括具有側(cè)壁114的腔室112，腔室112通常是高真空室。靶材10被設(shè)置在腔室的上部區(qū)域中，且基板118被設(shè)置在腔室的下部區(qū)域中?；?18被保持在保持器120上，所述保持器通常包括靜電卡盤。靶材10將通過適當(dāng)?shù)闹С袠?gòu)件（未示出）被保持，所述支承構(gòu)件可包括動(dòng)力源?？稍O(shè)置上部罩（未示出）以罩住靶材10的邊緣。靶材10的材料可包括例如鋁、鎘、鈷、銅、金、銦、鉬、鎳、鈮、鈀、鉑、錸、釕、銀、錫、鉭、鈦、鎢、釩和鋅中的一種或多種。這些元素可以以元素、化合物或合金的形式存在。?

基板118可包括例如半導(dǎo)體晶片，例如單晶硅晶片。?

濺射材料從靶材10的表面中濺射出來且被導(dǎo)向基板118。濺射材料122由箭頭表示。通常情況下，聚焦線圈100被設(shè)置在腔室112內(nèi)，聚焦線圈可改進(jìn)濺射材料122的取向，且引導(dǎo)濺射材料與基板118的上表面相對(duì)正交，以提高濺射過程中所形成薄膜的均勻性。?

聚焦線圈100通過銷128被保持在腔室112內(nèi)，所述銷128延伸通過聚焦線圈100的側(cè)壁且還通過腔室112的側(cè)壁114。銷128通過固定螺絲（未標(biāo)號(hào)）被保持處于所示構(gòu)型。圖1示出了沿聚焦線圈100內(nèi)表面的銷128的頭部132和沿室側(cè)壁114的外表面的另一頭部130。?

隔件140（通常被稱作隔套）環(huán)繞銷128延伸且被用以使聚焦線圈100與側(cè)壁114隔開。?

在公開號(hào)為CN101545093A（公開日：2009年9月30日）的中國專利文獻(xiàn)中還能發(fā)現(xiàn)更多的聚焦線圈的信息。?

在濺射過程中，會(huì)有一些濺射材料原子聚集在聚焦線圈100上面，如果聚焦線圈100表面光滑，成片的濺射材料原子會(huì)掉落至基板118上從而嚴(yán)重影響薄膜質(zhì)量，因此，需要將聚焦線圈表面粗糙化，從而使得聚集在聚焦線圈100上面的濺射材料原子都附著在聚焦線圈表面，防止其掉落至基板118上。?

但是，現(xiàn)有技術(shù)中將聚焦線圈表面粗糙化后，在使用聚焦線圈的過程中，仍會(huì)出現(xiàn)下列情況：（1）附著在聚焦線圈表面的部分濺射材料原子掉落至基板上，從而影響成膜質(zhì)量；另外還會(huì)出現(xiàn)（2）聚焦線圈的使用壽命較短。?

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型解決的問題是將聚焦線圈表面粗糙化后，在使用聚焦線圈的過程中，仍會(huì)出現(xiàn)附著在聚焦線圈表面的部分濺射材料原子掉落至基板上，從而影響成膜質(zhì)量的問題。而且，聚焦線圈的使用壽命較短。?

為解決上述問題，本實(shí)用新型提供了一種液壓滾花附加裝置，包括：?

液壓裝置和滾花刀架；?

所述液壓裝置包括：液缸，位于所述液缸外的第一活塞、位于所述液缸內(nèi)的第二活塞、連接第一活塞和第二活塞的活塞桿；?

在滾花裝置工作時(shí)所述第一活塞推抵所述滾花刀架。?

可選的，所述液壓裝置還包括：?

底座，用于將所述液壓裝置與所述滾花裝置連接；?

所述液缸設(shè)置在所述底座上，所述第二活塞將所述液缸分為第一腔室和第二腔室，所述液缸設(shè)置有位于第一腔室側(cè)的第一輸液口、位于第二腔室側(cè)的第二輸液口；?

輸液泵，包括泵體和儲(chǔ)液箱；所述泵體用于提供所述液壓裝置的輸液動(dòng)力，所述儲(chǔ)液箱用于存儲(chǔ)所述液壓裝置用液，所述儲(chǔ)液箱設(shè)置有進(jìn)液口和出液口；所述進(jìn)液口和所述第一輸液口通過輸液管連通，所述出液口和所述第二輸液口通過輸液管連通。?

可選的，還包括控制開關(guān)，用于控制所述泵體的工作。?

可選的，所述液壓裝置還包括電磁閥和控制開關(guān)，所述控制開關(guān)用來控制所述泵體、電磁閥的工作；?

所述電磁閥用于控制液壓裝置中液體的流向。?

可選的，所述電磁閥設(shè)有電磁閥腔體，所述電磁閥腔體內(nèi)部設(shè)有控制閥體；?

所述電磁閥腔體具有第一排液孔、第二排液孔、第三排液孔和第四排液孔；?

所述第一排液孔和所述第一輸液口通過輸液管連通，所述第二排液孔和所述第二輸液口通過輸液管連通，所述第三排液孔和所述進(jìn)液口通過輸液管連通，所述第四排液孔和所述出液口通過輸液管連通；?