[實(shí)用新型]一種摩擦布和摩擦裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220468535.8
• 申請(qǐng)日: 2012-09-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN202794779U
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-03-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 毛振華;鄧金陽(yáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1337
• 分類號(hào): G02F1/1337
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種摩擦布和摩擦裝置。

背景技術(shù)

摩擦工藝是TFT-LCD(Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display，薄膜晶體管液晶顯示器)制程中至關(guān)重要的工藝。

摩擦工藝主要是指：在TFT-LCD的制程中通過(guò)貼附在摩擦輥上的摩擦布對(duì)基板上形成的PI(Polyimide，聚酰亞胺)薄膜進(jìn)行摩擦，在PI薄膜表面形成溝槽，經(jīng)摩擦后的PI薄膜可以稱為取向膜。取向膜上的溝槽密度影響了液晶的錨定力：溝槽密度越大，液晶的錨定力就越強(qiáng)；相反，溝槽密度越小，液晶的錨定力就越弱。

如圖1、圖2所示，摩擦布1包括基膜11和毛羽12，且沿摩擦方向上各排毛羽12的密度均是相同的。現(xiàn)有技術(shù)為了使摩擦強(qiáng)度增大同時(shí)可以得到致密的溝槽，在摩擦工藝中注重增加摩擦毛羽密度，以增大對(duì)液晶分子的錨定力。但是，摩擦毛羽密度增大使得毛羽之間會(huì)有相互交疊的趨勢(shì)，從而造成摩擦得到的取向膜上溝槽的均勻度有所降低，進(jìn)而影響液晶顯示器的顯示效果。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種摩擦布和摩擦裝置，用于提高取向膜上溝槽的均勻度，從而提高液晶顯示器的顯示效果。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

第一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種摩擦布，包括：基膜和固定設(shè)置在所述基膜上的多排毛羽，所述多排毛羽中至少兩排毛羽的密度不同。

可選的，按照毛羽排布的順序所述多排毛羽分為至少兩組，各組中的毛羽分布一致，且同一組中至少兩排毛羽的密度不同；其中，一組毛羽包含至少兩排毛羽。

可選的，所述摩擦布，同一組中的各排毛羽的密度兩兩不同。

可選的，所述多排毛羽中，相鄰的兩排毛羽的密度不同，且相隔有一排的兩排毛羽的密度相同。

可選的，所述毛羽的相鄰排間距相同。

第二方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種摩擦裝置，包括：摩擦輥，以及貼附在所述摩擦輥上的如第一方面所述的摩擦布。

可選的，所述摩擦裝置的摩擦方向與所述摩擦布的任一排毛羽的排列方向垂直。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的摩擦布和摩擦裝置，在摩擦布的基膜上設(shè)置有密度不同的多排毛羽，那么在利用該摩擦布對(duì)基板表面進(jìn)行摩擦?xí)r，密度大的毛羽在摩擦過(guò)程中可以使取向膜具有致密的溝槽，從而增大液晶分子的錨定力；密度小的毛羽在摩擦過(guò)程中使摩擦更加均勻，從而提高取向膜上溝槽的均勻度，進(jìn)而在保證液晶分子的錨定力的前提下，提高液晶分子的取向方向均勻度，提高液晶顯示器的顯示效果。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的傳統(tǒng)摩擦布的俯視示意圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的傳統(tǒng)摩擦布的A-A剖視圖；

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的摩擦布的俯視示意圖；

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的摩擦布的B-B剖視圖；

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種摩擦布的俯視示意圖；

圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種摩擦布的C-C剖視圖；

圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種摩擦布的俯視示意圖；

圖8為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種摩擦布的D-D剖視圖；

圖9為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的摩擦裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記：

1-摩擦布，11-基膜，12-毛羽；71-摩擦輥，72-摩擦布，73-基板。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。

結(jié)合圖3、圖5、圖7，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種摩擦布1，所述摩擦布1包括：基膜11和固定設(shè)置在所述基膜上的多排毛羽12；其中，所述多排毛羽12中至少兩排毛羽的密度不同。