[實用新型]雙工件臺測量初始化系統有效
| 申請號： | 201220459452.2 | 申請日： | 2012-09-10 |
| 公開（公告）號： | CN202771156U | 公開（公告）日： | 2013-03-06 |
| 發明（設計）人： | 吳飛;郭琳;袁志揚;吳萍;謝靈軍 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G01B11/00 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 雙工 測量 初始化 系統 | ||
1.一種雙工件臺測量初始化系統，其特征在于，包括兩套激光干涉儀組件和四套測量組件，所述兩套激光干涉儀組件分別設置于兩個工件臺的周側，并分別對準對應的工件臺，所述四套測量組件中兩套設置于工作臺上的測量位側，另兩套設置于所述工作臺上的曝光位側。
2.根據權利要求1所述雙工件臺測量初始化系統，其特征在于，所述兩套設置于測量位側的測量組件分別設置于所述工作臺的中心線的兩側，所述另兩套設置于曝光位側的測量組件也分別設置于所述工作臺的中心線的兩側。
3.根據權利要求1所述雙工件臺測量初始化系統，其特征在于，所述四套測量組件均包括三個零位傳感器。
4.根據權利要求1至3任一項所述雙工件臺測量初始化系統，其特征在于，所述兩套激光干涉儀組件均包括三個激光干涉儀，所述三個激光干涉儀均對準對應的工件臺。
5.一種雙工件臺測量初始化系統，其特征在于，包括兩套激光干涉儀組件和三套測量組件，所述兩套激光干涉儀組件分別設置于兩個工件臺的周側，并分別對準所述兩個工件臺，所述三套測量組件中一套設置于工作臺上的測量位側，另兩套設置于所述工作臺上的曝光位側。
6.根據權利要求5所述雙工件臺測量初始化系統，其特征在于，所述另兩套設置于曝光位側的測量組件分別設置于所述工作臺的中心線的兩側。
7.根據權利要求5所述雙工件臺測量初始化系統，其特征在于，所述三套測量組件均包括三個零位傳感器。
8.根據權利要求5至7任一項所述雙工件臺測量初始化系統，其特征在于，所述兩套激光干涉儀組件均包括三個激光干涉儀，所述三個激光干涉儀均對準對應的工件臺。
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