[實用新型]一種掩模框架及其對應的掩模組件有效

申請號：	201220454429.4	申請日：	2012-09-07
公開（公告）號：	CN202913045U	公開（公告）日：	2013-05-01
發明（設計）人：	魏志凌;高小平;張煒平	申請（專利權）人：	昆山允升吉光電科技有限公司
主分類號：	C23C14/04	分類號：	C23C14/04
代理公司：	暫無信息	代理人：	暫無信息
地址：	215300 江蘇省***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種框架及其對應模組
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【權利要求書】：

1.一種掩模框架，其特征在于,包括：

內框,所述內框用來與掩模板周邊連接固定，起到將掩模板繃緊的作用；

強化桿,所述強化桿置于所述內框外側與所述內框相互作用，起到減少或彌補當所述內框將所述掩模板繃緊時產生的所述內框邊框向內收縮量的作用；

及連接機構，所述連接機構用于連接所述內框和置于所述內框外側的所述強化桿，起到支撐所述強化桿，將所述內框向內收縮的邊框向外進行拉伸，起到減少或彌補當所述內框將所述掩模板繃緊時產生的所述內框邊框向內收縮量的作用。

2.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述內框包括兩組對邊，所述兩組對邊構成一個中空封閉矩形框架。

3.根據權利要求2所述的掩模框架，其特征在于，所述中空封閉矩形框架為一體成型或由所述兩組對邊通過連接部件連結構成。

4.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述內框和強化桿在接觸部位具有對應的支撐機構，且所述支撐機構使所述內框和所述強化桿連接時具有間隙。

5.根據權利要求4所述的掩模框架，其特征在于，所述對應的支撐機構是分別位于所述內框和所述強化桿接觸部位具有定位作用的凸起結構和凹陷結構或者是簡單的單邊凸起結構而無相應的凹陷結構。

6.根據權利要求5所述的掩模框架，其特征在于，所述具有定位作用的凸起結構和凹陷結構是半徑相同、配合后二者能夠實現重合的圓柱體或者是可配合的梯形凸起結構和可與所述梯形凸起結構配合定位的凹陷結構或者是n大于等于1個柱狀凸起結構和可與所述柱狀凸起結構配合的凹陷結構，所述柱狀突起結構和所述柱狀凸起結構配合的凹陷結構的中心線重合且垂直于所述接觸部位表面。

7.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述連接機構是螺絲結構。

8.根據權利要求7所述的掩模框架，其特征在于，所述螺絲結構為密紋螺絲結構。

9.根據權利要求1、2所述的掩模框架，其特征在于，所述強化桿和所述對邊設置有用于螺絲連接的對邊配對孔和強化桿配對孔。

10.根據權利要求9所述的掩模框架，其特征在于，所述對邊配對孔在所述對邊上為螺紋盲孔。

11.根據權利要求9所述的掩模框架，其特征在于，所述強化桿配對孔在所述強化桿上為圓柱階梯通孔。

12.根據權利要求9所述的掩模框架，其特征在于，所述配對孔在所述對邊和所述強化桿長度方向上按規律排列。

13.根據權利要求12所述的掩模框架，其特征在于，所述配對孔為中間密集、兩端稀疏規則排列或均勻排列或中間稀疏、兩端密集排列。

14.根據權利要求1-13任一項所述的掩模框架，其特征在于，所述掩模框架還包括用于增加所述強化桿和所述內框之間支撐力的彈性部件。

15.根據權利要求14所述的掩模框架，其特征在于，所述彈性部件是彈簧。

16.根據權利要求1-13，15任一項所述的掩模框架，其特征在于，所述掩模框架還包括支撐桿，所述支撐桿用來進一步減少掩模板的下垂量。

17.根據權利要求1-13，15任一項所述的掩模框架，其特征在于，所述強化桿還包括有突起平臺，所述突起平臺與所述內框對邊下表面緊密接觸，掩膜組件水平放置時，所述突起平臺起到支撐內框的作用。

18.根據權利要求17所述的掩模框架，其特征在于，所述突起平臺與所述內框對邊的內側均設置有倒角結構或過渡曲線結構。