[實用新型]一種污水處理裝置

有效

• 申請號: 201220450810.3
• 申請日: 2012-09-05
• 公開（公告）號: CN202945120U
• 公開（公告）日: 2013-05-22
• 發明（設計）人: 李艷;王儀明;劉寧;孫萬杰
• 申請（專利權）人: 北京印刷學院
• 主分類號: C02F9/10
• 分類號: C02F9/10;C02F1/04
• 代理公司: 北京風雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 李弘;楊紅梅

技術領域

本實用新型涉及污水處理領域，特別涉及污水處理裝置。?

背景技術

為了保護印版，提高版面的圖文清晰度，有必要對印版進行清洗。目前大部分印刷廠采用手工來清洗印版，不僅浪費時間，而且印版清洗后的廢液中含有大量有害化學物質，如果直接進行排放，將對環境造成很大污染。?

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型的目的在于提出一種污水處理裝置，對污水進行凈化，減少環境污染。?

基于上述目的，本實用新型提供一種污水處理裝置，其包括二級過濾系統和蒸餾系統；所述二級過濾系統包括粗濾段、細濾段和出水口；所述蒸餾系統包括噴淋裝置、至少兩個填料層和至少兩個填料支撐結構；所述填料支撐結構安裝在所述填料層的底部，每隔一定高度的填料層設置一液體再分布裝置，所述液體再分布裝置安裝在所述填料支撐結構的底部。?

可選地，最上方的所述填料層與所述噴淋裝置的距離為400mm~450mm。?

可選地，所述填料層的高度為20mm~100mm。?

可選地，所述填料支撐結構之間的高度為350mm~400mm。?

可選地，所述噴淋裝置為管式噴灑器、噴頭式噴灑器、盤式噴灑器或沖擊式噴灑器。?

可選地，所述填料支撐結構為柵板或波形板。?

可選地，所述液體再分布裝置為帶孔分配錐或槽式分配錐。?

從上面所述可以看出，本實用新型提供的一種污水處理裝置，經過二級過濾系統，濾掉印版清洗污水中的雜質，實現固液分離；經過蒸餾過程，進?

一步對污水中的有害化學物質進行凈化，提高水的利用率，減少環境污染。?

附圖說明

圖1為本實用新型實施例的污水處理裝置示意圖；?

圖2為本實用新型實施例的污水處理裝置結構示意圖。?

具體實施方式

為使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚明白，以下結合具體實施例，并參照附圖，對本實用新型進一步詳細說明。?

圖1為本實用新型實施例的污水處理裝置示意圖。如圖1所示，污水處理裝置包括二級過濾系統和減壓蒸餾系統。二級過濾系統包括粗濾段、細濾段和出水口。減壓蒸餾系統包括噴淋裝置和至少兩個填料層。?

其中，每個填料層對應一個填料支撐結構，該填料支撐結構安裝在填料層的底部。每隔一定高度的填料層設置一液體再分布裝置，液體再分布裝置安裝在所述填料支撐結構的底部。?

圖2為本實用新型實施例的污水處理裝置結構示意圖。如圖2所示，印版清洗之后的污水進入二級過濾系統的進水口6，經過粗濾段1濾掉較大顆粒的雜質，大顆粒的雜質直接進入排污口5。污水經過粗濾段1之后，進入細濾段，通過細濾段2濾掉污水中的細小顆粒雜質。具體地，吸嘴4將細小顆粒的雜質吸入吸污管3，電機7驅動吸污管3轉動使細小顆粒的雜質進入排污口5。?

污水經過粗濾和細濾過程后，通過出水口8到達蒸餾塔的噴淋裝置9處，填料層10與噴淋裝置9的距離為約400mm~450mm，填料層10的高度為約20mm~100mm，噴淋裝置9可以使整個填料層10表面達到很好的潤濕。填料支撐結構11安裝在填料層10的底部，填料支撐結構11支撐填料及填料層10中所載的液體，同時保證氣流能均勻地進入填料層10，并使氣流的流通面積無明顯減少。液體再分布裝置12安裝在填料支撐結構11的底部，使污水流經一段距離后再進行分布，從而使整個高度內的填料得到均勻噴淋。蒸餾塔內設置一定高度的填料層，污水從塔頂沿填料表面呈薄膜狀向下流動，高溫氣體從進氣口15進入，呈連續相由下向上流動，氣液相逆流接觸實現傳質過程。印版清洗后的廢液經過二級過濾和蒸餾凈化后，水中的化學物質已經很少，可以再次用于清洗印版，實現水的循環利用。?

作為一個實施例，蒸餾塔中的填料層可以是第一填料層10和第二填料層13，在大型蒸餾塔中，還可以是多個填料層，例如可以是至少兩個填料層。當為多個填料層的情況下，除了最后一個填料層的填料支撐結構不需要安裝液體再分配裝置之外，其上的填料支撐結構都安裝有液體再分配裝置。噴淋裝置可以選擇管式噴灑器、噴頭式噴灑器、盤式噴灑器或沖擊式噴灑器等類型的噴灑器。填料支撐結構選擇柵板或波形板，當填料支撐結構選擇柵板時，兩層柵板之間的高度為約350mm~400mm。液體再分布裝置選擇帶孔分配錐或槽式分配錐或其它類型的分配裝置。?

所屬領域的普通技術人員應當理解：以上所述僅為本實用新型的具體實施例而已，并不用于限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內，所做的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。?