[實(shí)用新型]噴砂機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220449788.0
• 申請(qǐng)日: 2012-09-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN202846375U
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陽(yáng)威;張迅;彭順明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江西沃格光電科技有限公司
• 主分類號(hào): B24C3/32
• 分類號(hào): B24C3/32;B24C3/04;B24C9/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 吳平

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種噴砂機(jī)。

背景技術(shù)

基片架是磁控濺射鍍膜系統(tǒng)中用于支撐和固定待鍍膜基片的工件。新基片架首次使用之前和在使用一段時(shí)間過(guò)后，均需要進(jìn)行噴砂表面處理以在鍍膜過(guò)程中保證鍍膜室的潔凈度，以達(dá)到基片的鍍膜工藝要求和質(zhì)量的保證。

然而，因工作需要，基片架的一端設(shè)置有磁導(dǎo)向裝置，而噴砂所用的砂料含有少量鐵元素，這種砂料會(huì)吸附在帶有磁性的物品上，使得在噴砂過(guò)程中，砂料快速的噴向基片架時(shí)會(huì)有部分砂料和粉塵濺射到磁導(dǎo)向裝置上，砂料和粉塵會(huì)擊打磁導(dǎo)向裝置而造成磁導(dǎo)向裝置的損傷，并且砂料和粉塵會(huì)進(jìn)入磁導(dǎo)向裝置內(nèi)部，進(jìn)入磁導(dǎo)向裝置內(nèi)部的砂料和粉塵很難清理，直接影響基片架在后續(xù)鍍膜工序中的使用，嚴(yán)重會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品不良和報(bào)廢。

實(shí)用新型內(nèi)容

基于此，有必要提供一種能夠在噴砂過(guò)程中保護(hù)基片架的磁導(dǎo)向裝置的噴砂機(jī)。

一種噴砂機(jī)，用于對(duì)待噴砂基片架進(jìn)行噴砂，包括：

箱體，具有一供所述待噴砂基片架進(jìn)入的開(kāi)口，所述箱體的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有多個(gè)噴砂口，砂料從所述噴砂口噴向所述待噴砂基片架的表面；

多個(gè)導(dǎo)輪，設(shè)置于所述箱體與開(kāi)設(shè)有所述噴砂口的側(cè)壁相對(duì)的側(cè)壁上，所述待噴砂基片架滑動(dòng)設(shè)置于所述多個(gè)導(dǎo)輪上；

防護(hù)罩，設(shè)置于所述箱體的頂部，并與所述多個(gè)導(dǎo)輪相對(duì)，所述待噴砂基片架裝有磁導(dǎo)向裝置的一端位于所述防護(hù)罩內(nèi)。

在其中的一個(gè)實(shí)施例中，所述防護(hù)罩為條形的不銹鋼槽，所述不銹鋼槽的開(kāi)口端與所述導(dǎo)輪相對(duì)。

在其中的一個(gè)實(shí)施例中，所述不銹鋼槽的橫截面為方形。

在其中的一個(gè)實(shí)施例中，所述不銹鋼槽的橫截面為梯形，且從槽底至開(kāi)口的方向，所述不銹鋼槽的寬度逐漸減小。

在其中的一個(gè)實(shí)施例中，所述箱體的底面開(kāi)設(shè)有回砂孔，噴砂處理后的脫落物從所述回砂孔流出。

在其中的一個(gè)實(shí)施例中，所述箱體的底面設(shè)置有與所述回砂孔連通的回砂料斗、及與所述回砂料斗連通的回砂管，噴砂處理后的脫落物從所述回砂孔流向所述回砂料斗，再?gòu)乃龌厣傲隙妨飨蛩龌厣肮堋?/p>

在其中的一個(gè)實(shí)施例中，所述箱體的底面設(shè)置有與所述回砂孔相對(duì)的濾網(wǎng)，噴砂處理后的脫落物經(jīng)所述濾網(wǎng)過(guò)濾后從所述回砂孔流出。

在其中的一個(gè)實(shí)施例中，所述箱體的側(cè)壁上設(shè)置有可視窗口，所述可視窗口用于監(jiān)控噴砂處理的情況。

在其中的一個(gè)實(shí)施例中，所述箱體的頂壁上設(shè)置有照明燈。

在其中的一個(gè)實(shí)施例中，所述箱體上設(shè)置有操作門，所述操作門可活動(dòng)地設(shè)置于所述箱體的開(kāi)口以密封或打開(kāi)所述開(kāi)口。

使用上述噴砂機(jī)對(duì)待噴砂基片架進(jìn)行噴砂處理時(shí)，待噴砂基片架裝有磁導(dǎo)向裝置的一端位于防護(hù)罩內(nèi)，另一端滑動(dòng)設(shè)置于導(dǎo)輪上，砂料從噴砂口噴向待噴砂基片架的表面時(shí)，由于防護(hù)罩的遮擋，基片架的磁導(dǎo)向裝置免受砂料和粉塵的擊打，且砂料和粉塵難以進(jìn)入磁導(dǎo)向裝置的內(nèi)部。因此，使用上述噴砂機(jī)對(duì)基片架進(jìn)行噴砂處理時(shí)，能夠很好地保護(hù)基片架的磁導(dǎo)向裝置。

附圖說(shuō)明

圖1為一實(shí)施方式的噴砂機(jī)的立體示意圖；

圖2為圖1所示的噴砂機(jī)的主視圖；

圖3為圖1所示的噴砂機(jī)的左視圖；

圖4為噴砂過(guò)程中，待噴砂基片架伸入一實(shí)施方式的噴砂機(jī)的防護(hù)罩中的狀態(tài)示意圖；

圖5為噴砂過(guò)程中，待噴砂基片架伸入另一實(shí)施方式的噴砂機(jī)的防護(hù)罩中的狀態(tài)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下通過(guò)具體實(shí)施方式對(duì)上述噴砂機(jī)進(jìn)一步闡述。

請(qǐng)參閱圖1，一實(shí)施方式的噴砂機(jī)100，包括箱體10、多個(gè)導(dǎo)輪20和防護(hù)罩30。

箱體10包括形狀為長(zhǎng)方體的箱體主體11和用于支撐箱體主體11的四個(gè)支腳12。

箱體主體11的側(cè)壁上具有一開(kāi)口（圖未標(biāo)）。該開(kāi)口用于供待噴砂基片架進(jìn)入箱體主體11內(nèi)部。箱體主體11上設(shè)置有操作門13，操作門13可活動(dòng)地設(shè)置于箱體主體11的側(cè)壁，用于密封或打開(kāi)箱體主體11的開(kāi)口。

請(qǐng)同時(shí)參閱圖2，箱體主體11的另一個(gè)側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有多個(gè)噴砂口14。本實(shí)施方式中噴砂口14的數(shù)量為12，6個(gè)為一組，每一組成三行兩列開(kāi)設(shè)于箱體主體11的與開(kāi)口所在的側(cè)壁垂直的一個(gè)側(cè)壁上。兩組噴砂口14之間的距離大于每一組噴砂口14的列間距。

箱體主體11上設(shè)置有可視窗口15。本實(shí)施方式中，可視窗口15的數(shù)量為4，2個(gè)為一組，一上一下分布于每一組噴砂口14的兩列噴砂孔14之間。