[實用新型]金屬化膜及鍍膜機

有效

• 申請號: 201220445298.3
• 申請日: 2012-09-04
• 公開（公告）號: CN202766610U
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 曹駿驊;周峰
• 申請（專利權）人: 安徽賽福電子有限公司
• 主分類號: C23C14/14
• 分類號: C23C14/14;C23C14/24;C23C14/54;B32B15/04;H01G4/005;H01G13/00
• 代理公司: 安徽匯樸律師事務所 34116
• 代理人: 胡敏

1.金屬化膜，其包括絕緣的薄膜層以及鍍在該薄膜層上的金屬鍍層，其特征在于，該金屬鍍層呈曲線形態變化且包括邊緣加厚的加厚區、呈N型正弦半波形變化的低阻區以及呈狹長條形的高阻區，該低阻區銜接該加厚區與該高阻區，且該低阻區與該加厚區以及該高阻區均采用弧形過渡。

2.如權利要求1所述的金屬化膜，其特征在于，該加厚區的厚度均大于該低阻區的厚度與該高阻區的厚度，該加厚區的長度均小于該低阻區的長度與該高阻區的長度，該加厚區的寬度均大于該低阻區的長度與該高阻區的寬度，該高阻區的厚度小于該低阻區的厚度，該高阻區的長度小于該低阻區的長度，該高阻區的寬度小于該低阻區的寬度。

3.鍍膜機，其用于產生如權利要求1或2所述的金屬化膜，該鍍膜機包括用于控制真空蒸鍍腔內金屬粒子的滲透量的擋板以及用于決定該金屬粒子的密度的送絲齒輪，該擋板開設有供該金屬粒子滲透的滲透孔，其特征在于，該滲透孔為若干呈周期分布的通孔，每個通孔的左右區域對稱設置，每個區域包括邊緣加厚的加厚區孔、呈N型正弦半波形變化的低阻區孔以及呈狹長條形的高阻區孔，每個通孔中的兩個加厚區孔相鄰，該送絲齒輪為曲輪通過線速度變化控制送絲速度從而控制該金屬粒子的密度。

4.如權利要求3所述的鍍膜機，其特征在于，該加厚區孔的長度均小于該低阻區孔的長度與該高阻區孔的長度，該加厚區孔的寬度均大于該低阻區孔的長度與該高阻區孔的寬度，該高阻區孔的長度小于該低阻區孔的長度，該高阻區孔的寬度小于該低阻區孔的寬度。

5.如權利要求3所述的鍍膜機，其特征在于，該曲輪的一端呈半圓形，該曲輪的另一端呈橢圓形。