[實用新型]一種可夾層的、鍍低輻射雙銀鍍膜的玻璃制品有效
| 申請號: | 201220443436.4 | 申請日: | 2012-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN202865114U | 公開(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發明(設計)人: | 崔平生;黃穎;余華駿 | 申請(專利權)人: | 東莞南玻工程玻璃有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 廣州三環專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 張艷美;郝傳鑫 |
| 地址: | 523141 廣東省東莞市麻涌鎮新*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 夾層 輻射 鍍膜 玻璃制品 | ||
技術領域
本實用新型涉及鍍膜玻璃技術領域,尤其涉及一種可夾層的、鍍低輻射雙銀鍍膜的玻璃制品。
背景技術
磁控濺射真空室能通過的玻璃厚度一般是19mm,如果超過19mm厚的玻璃,則不能進行鍍膜,單片玻璃的厚度一般也就是19mm。對于一些有特殊要求的工程建筑,為了得到更加安全的玻璃,則要求用夾層玻璃,如果夾層后玻璃厚度不超過19mm,也可以在濺射室內進行鍍膜。但是如果夾層玻璃厚度超過了19mm,按常規的做法則沒法對夾層玻璃進行鍍膜。
對于沒有該技術之前,鍍膜如果要生產雙銀低輻射夾層玻璃時,只能生產19mm以下的夾層產品,先把玻璃制成夾層玻璃,然后再進行鍍膜,這只是限制了夾層玻璃的厚度來實現鍍膜。
現有技術的缺點很明顯,就是沒法對超過19mm厚的玻璃進行鍍雙銀低輻射膜。這主要是由于鍍膜設備設計限制了玻璃通過的厚度,設備的本身特點使得不能通過19mm的玻璃。如果采用先將玻璃鍍膜后再進行夾層處理,就能實現19mm以上的夾層玻璃產品生產;但是在夾層生產工藝過程中,玻璃要經過清洗機清洗,經過壓輥壓制成型,還要在高壓釜內經過高溫高壓燒制,最終才能制成夾層產品,這樣就對膜層提出了很高的要求:
1、要經得起200℃高溫的烘烤,膜層不會燒壞,顏色不會發生變化;
2、要耐氧化,在夾層加工過程中不能出現出現膜層氧化;
3、有很高的抗刮傷性能。
4、加工過程中,膜面不能留下任何痕跡。
而目前現有技術中玻璃的鍍膜達不到這樣的要求。
實用新型內容
針對上述現有技術的不足,本實用新型的目的在于提供了一種可夾層的、鍍低輻射雙銀鍍膜的玻璃制品;它的鍍膜層具有優異的耐高溫、耐氧化和抗刮傷不易留痕跡性能,能在整個夾層加工過程中耐受得住工藝條件的處理,最終實現獲得19mm以上的鍍雙銀低輻射膜的夾層玻璃產品。
為了實現上述目的,本實用新型的技術方案如下:
一種可夾層的、鍍低輻射雙銀鍍膜的玻璃制品,包括玻璃基片層和鍍膜層,所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外,依次包括Si3N4層、AZO層、NiCr層、Ag層、NiCr層、AZO層、Si3N4層、AZO層、NiCr層、Ag層、NiCr層、AZO層和Si3N4層,所述玻璃制品的結構為:
Glass/Si3N4/AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO/Si3N4/AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO/Si3N4。
其中,所述AZO層是由ZnOx、AlOY燒制而成的具有陶瓷功能的氧化物。
較佳地,所述ZnOx為氧化鋅、過氧化鋅中的一種或兩種混合物。
較佳地,所述AlOY為一氧化鋁、二氧化鋁中的一種或兩種混合物。
較佳地,所述Si3N4層單層的厚度為5~80nm。
較佳地,所述AZO層單層的厚度為5~30nm。
較佳地,所述NiCr層單層的厚度為1~10nm。
較佳地,所述Ag層單層的厚度為5~25nm。
本實用新型是先將單片玻璃鍍低輻射雙銀,然后再將這片已經鍍上低輻射雙銀的玻璃做成夾層產品,這就實現了超過19mm厚的夾層玻璃也能鍍上雙銀低輻射膜。
本實用新型采用了可耐高溫的雙銀低輻射結構,此實用新型結構為:
Glass/Si3N4/AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO/Si3N4/AZO/NiCr/Ag/NiCr/AZO/Si3N4
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