[實用新型]一種減少類金剛石鍍膜過程中打火的真空室

有效

• 申請號: 201220442903.1
• 申請日: 2012-08-31
• 公開（公告）號: CN202766614U
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 李燦民;陶滿;陶圣全
• 申請（專利權）人: 合肥永信等離子技術有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/32
• 代理公司: 安徽省合肥新安專利代理有限責任公司 34101
• 代理人: 何梅生;王偉

1.一種減少類金剛石鍍膜過程中打火的真空室，其特征在于，真空室內懸掛有一個由上下兩層結構組成的金屬支架，所述金屬支架的上下兩層之間通過絕緣子連接；所述金屬支架的下層平行設置有多根懸桿；所述真空室內還設有帶電子逃逸口的金屬網罩，所述金屬網罩通過一橫向貫穿的金屬棒將其懸掛在金屬支架的下層懸桿上；所述金屬支架的下層與真空室外高壓脈沖電源電連接。

2.根據權利要求1所述的一種減少類金剛石鍍膜過程中打火的真空室，其特征在于，所述電子逃逸口的大小為10cm²~30cm²。

3.根據權利1所述的一種減少類金剛石鍍膜過程中打火的真空室，其特征在于，所述絕緣子兩端為螺桿結構，兩端通過螺母與金屬支架的上層和下層固定連接；所述絕緣子材質為陶瓷或玻璃纖維。