[實用新型]一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時進行的裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220442335.5 | 申請日： | 2012-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN202705523U | 公開（公告）日： | 2013-01-30 |
| 發(fā)明（設計）人： | 王政江 | 申請（專利權）人： | 中國振華電子集團宇光電工有限公司（國營第七七一廠） |
| 主分類號： | C25D5/02 | 分類號： | C25D5/02;C25D5/06;C25D5/00;C25D7/00 |
| 代理公司： | 北京聯(lián)創(chuàng)佳為專利事務所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 王娟;郭防 |
| 地址： | 550018 貴*** | 國省代碼： | 貴州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空 滅弧室 電鍍 刷鍍鎳 同時 進行 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時進行的裝置，其特征在于：包括杯形電極（1），環(huán)形定位盤（2），環(huán)形電極（3）和刷鍍電極（4），所述杯形電極（1）固定于電鍍槽內(nèi)，環(huán)形定位盤（2）固定于杯形電極（1）上方，環(huán)形電極（3）固定于環(huán)形定位盤（2）上方。
2.根據(jù)權利要求書1所述的真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時進行的裝置，其特征在于：所述杯形電極（1）上連接有電極連接條一（5），電極連接條一（5）與直流電源的正極相連，刷鍍電極（4）與直流電源的正極相連。
3.根據(jù)權利要求書1所述的真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時進行的裝置，其特征在于：所述環(huán)形電極（3）連接有電極連接條二（6），環(huán)形電極（3）與被刷鍍的金屬表面相連，電極連接條二（6）與直流電源的負極相連。
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