[實(shí)用新型]一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220440619.0 | 申請(qǐng)日： | 2012-08-31 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN202764449U | 公開（公告）日： | 2013-03-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 林麗芬 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 東莞市施樂威爾光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B41M5/382 | 分類號(hào)： | B41M5/382;B32B15/04;B32B27/06;C09J7/02 |
| 代理公司： | 東莞市華南專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44215 | 代理人： | 卞華欣 |
| 地址： | 523000 廣東省東莞市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 燙金 轉(zhuǎn)移 粉化膜 | ||
1.一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜，包括拉絲基膜層，其特征在于：所述拉絲基膜層的下表面依次設(shè)置有分離層、信息涂層和真空鍍鋁層，還包括粉化膠層，粉化膠層設(shè)置于真空鍍鋁層的下表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜，其特征在于：所述粉化膠層的厚度為5～8μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜，其特征在于：所述分離層的厚度為0.5～1μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜，其特征在于：所述分離層為離型劑層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜，其特征在于：所述信息涂層的厚度為2～3μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜，其特征在于：所述真空鍍鋁層的厚度為1～4μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜，其特征在于：所述拉絲基膜層的厚度為18～25μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任意一項(xiàng)所述的一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜，其特征在于：所述拉絲基膜層包括有PET基膜層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種燙金轉(zhuǎn)移粉化膜，其特征在于：所述PET基膜層的下表面設(shè)置有拉絲層。
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