[實用新型]基于多CCD的空間尺寸測量裝置

有效

• 申請號: 201220433158.4
• 申請日: 2012-08-29
• 公開（公告）號: CN202757587U
• 公開（公告）日: 2013-02-27
• 發明（設計）人: 崔惠峰
• 申請（專利權）人: 蘇州逸美德自動化科技有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;G01B11/245
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 范晴

1.一種基于多CCD的空間尺寸測量裝置，包括機架（10），其特征在于：所述機架（10）上設置有第一相機支撐架（11）、第二相機支撐架（12）、位于所述第一相機支撐架和第二相機支撐架之間的且其上帶有多個標記點（6）的待測工件定位座（4）、以及用于帶動所述待測工件定位座在機架上平移的氣缸（9），所述第一相機支撐架（11）上安裝有垂直布置的、并能在X、Y、Z三個方向作平移運動的CCD工業相機Ⅰ（1），所述第二相機支撐架（12）上安裝有垂直布置的、并能在X、Y、Z三個方向作平移運動的CCD工業相機Ⅱ（2）和CCD工業相機Ⅲ（3），所述CCD工業相機Ⅰ（1）、CCD工業相機Ⅱ（2）、CCD工業相機Ⅲ（3）以及氣缸（9）均與一PLC程控器電連接，所述待測工件定位座（4）上還設有將待測工件（20）上的兩個水平圓孔（21）折射到豎直方向的棱鏡（5）。

2.根據權利要求1所述的基于多CCD的空間尺寸測量裝置，其特征在于：所述待測工件定位座（4）上開設有邊框透光孔（7）。

3.根據權利要求2所述的基于多CCD的空間尺寸測量裝置，其特征在于：所述待測工件定位座（4）上裝有背光光源（8）。

4.根據權利要求3所述的基于多CCD的空間尺寸測量裝置，其特征在于：所述待測工件定位座（4）上設有用于將待測工件（20）緊緊吸附在該待測工件定位座上的真空吸附機構。