[實(shí)用新型]一種用于校準(zhǔn)瞬變電磁場(chǎng)場(chǎng)均勻性的帶支架的系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220430012.4
• 申請(qǐng)日: 2012-08-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN202794351U
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-03-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚利軍;沈濤;黃建領(lǐng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京無(wú)線電計(jì)量測(cè)試研究所
• 主分類號(hào): G01R29/08
• 分類號(hào): G01R29/08
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 張文祎

1.用于校準(zhǔn)瞬變電磁場(chǎng)場(chǎng)均勻性的帶支架的系統(tǒng)，其特征在于，

該系統(tǒng)包括支架(1)、示波器(2)、第一探頭(3)和第二探頭(4)；

所述支架(1)包括底座(11)、轉(zhuǎn)軸(12)、圓拱形的第一拱襯(131)、圓拱形的第二拱襯(132)、第一測(cè)試桿(141)、第二測(cè)試桿(142)、第一旋鈕(151)、第二旋鈕(152)、第一探頭固定裝置(161)和第二探頭固定裝置(162)；

所述第一探頭(3)固定于所述第一測(cè)試桿(141)上，所述第二探頭(4)固定于所述第二測(cè)試桿(142)上，且所述第一探頭(3)和所述第二探頭(4)與所述示波器(2)電連接；

所述底座(11)的上表面設(shè)有凸起(17)，所述轉(zhuǎn)軸(12)固定于所述凸起(17)上，所述第一拱襯(131)和所述第二拱襯(132)設(shè)于所述底座(11)的上表面，且所述凸起(17)和所述轉(zhuǎn)軸(12)穿過(guò)所述第一拱襯(131)和所述第二拱襯(132)的中空部分，所述第一拱襯(131)所在的平面和所述第二拱襯(132)所在的平面分別與所述底座(11)的上表面垂直；

所述第一測(cè)試桿(141)和所述第二測(cè)試桿(142)的底端分別呈“h”字形，所述第一測(cè)試桿(141)和所述第二測(cè)試桿(142)的底端分別與所述轉(zhuǎn)軸(12)鉸接，且所述第一測(cè)試桿(141)和所述第二測(cè)試桿(142)分別能夠繞所述轉(zhuǎn)軸(12)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第一拱襯(131)被設(shè)置為穿過(guò)所述第一測(cè)試桿(141)的底端的缺口(1412)，所述第二拱襯(132)被設(shè)置為穿過(guò)所述第二測(cè)試桿(142)的底端的缺口(1422)；

所述第一拱襯(131)上設(shè)有圓拱形的第一凹槽(1311)，所述第一旋鈕(151)上設(shè)有螺紋，所述第一測(cè)試桿(141)底端的第二側(cè)板(1414)上設(shè)有與所述第一旋鈕(151)配合的螺紋，所述第一旋鈕(151)穿過(guò)所述第一測(cè)試桿(141)底端的第一側(cè)板(1413)和所述第一凹槽(1311)與所述第一測(cè)試桿(141)底端的第二側(cè)板(1414)配合，通過(guò)旋緊所述第一旋鈕(151)能夠使所述第一測(cè)試桿(141)的位置固定；

所述第二拱襯(132)上設(shè)有圓拱形的第二凹槽(1321)，所述第二旋鈕(152)上設(shè)有螺紋，所述第二測(cè)試桿(142)底端的第四側(cè)板(1424)上設(shè)有與所述第二旋鈕(152)配合的螺紋，所述第二旋鈕(152)穿過(guò)所述第二測(cè)試桿(142)底端的第三側(cè)板(1423)和所述第二凹槽(1321)與所述第二測(cè)試桿(142)底端的第四側(cè)板(1424)配合，通過(guò)旋緊所述第二旋鈕(152)能夠使所述第二測(cè)試桿(142)的位置固定；

所述第一探頭固定裝置(161)設(shè)于所述第一測(cè)試桿(141)上；所述第二探頭固定裝置(162)設(shè)于所述第二測(cè)試桿(142)上，所述第一探頭固定裝置(161)能夠沿所述第一測(cè)試桿(141)自由滑動(dòng)，所述第二探頭固定裝置(162)能夠沿所述第二測(cè)試桿(142)自由滑動(dòng)，所述第一探頭固定裝置(161)上設(shè)有第三旋鈕(1611)，所述第二探頭固定裝置(162)上設(shè)有第四旋鈕(1621)，通過(guò)旋緊所述第三旋鈕(1611)能夠使所述第一探頭固定裝置(161)的位置固定，通過(guò)旋緊所述第四旋鈕(1621)能夠使所述第二探頭固定裝置(162)的位置固定。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場(chǎng)場(chǎng)均勻性的帶支架的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一拱襯(131)和所述第二拱襯(132)上分別設(shè)有角度刻度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場(chǎng)場(chǎng)均勻性的帶支架的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一測(cè)試桿(141)的底端設(shè)有第一角度觀察窗(1411)，所述第二測(cè)試桿(142)的底端設(shè)有第二角度觀察窗(1421)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場(chǎng)場(chǎng)均勻性的帶支架的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一測(cè)試桿(141)和所述第二測(cè)試桿(142)上分別設(shè)有長(zhǎng)度刻度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場(chǎng)場(chǎng)均勻性的帶支架的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一探頭固定裝置(161)上設(shè)有第一長(zhǎng)度觀察窗(1612)，所述第二探頭固定裝置(162)上設(shè)有第二長(zhǎng)度觀察窗(1622)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于校準(zhǔn)瞬變電磁場(chǎng)場(chǎng)均勻性的帶支架的系統(tǒng)，其特征在于，所述凸起(17)呈圓拱形。