[實(shí)用新型]具有碳化硅保護(hù)層的加熱器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220429015.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-08-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN202786036U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-03-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何軍舫;王軍勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京博宇半導(dǎo)體工藝器皿技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C04B41/85 | 分類(lèi)號(hào): | C04B41/85 |
| 代理公司: | 北京鼎佳達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王偉鋒;劉鐵生 |
| 地址: | 101101 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 碳化硅 保護(hù)層 加熱器 | ||
1.具有碳化硅保護(hù)層的加熱器,包括加熱器本體,其特征在于,所述加熱器本體的表面覆有碳化硅保護(hù)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有碳化硅保護(hù)層的加熱器,其特征在于,所述加熱器本體呈迂回的折線形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有碳化硅保護(hù)層的加熱器,其特征在于,所述碳化硅保護(hù)層的厚度為0.01-3mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有碳化硅保護(hù)層的加熱器,其特征在于,所述碳化硅保護(hù)層通過(guò)化學(xué)氣相沉積法覆于加熱器本體的表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有碳化硅保護(hù)層的加熱器,其特征在于,所述加熱器本體為石墨加熱器或陶瓷加熱器。
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