[實(shí)用新型]用于堿性蝕刻液再生設(shè)備的溫控槽結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220423590.5
• 申請(qǐng)日: 2012-08-24
• 公開（公告）號(hào): CN202705486U
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 韋建敏;張小波;吳圣杰;張曉蓓
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 成都虹華環(huán)保科技有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/46
• 分類號(hào): C23F1/46
• 代理公司: 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220
• 代理人: 謝敏

1.用于堿性蝕刻液再生設(shè)備的溫控槽結(jié)構(gòu)，包括槽體（10）和槽體（10）底部的底座（6），其特征在于：所述槽體（10）內(nèi)部凹陷形成反應(yīng)槽（5），反應(yīng)槽（5）中部設(shè)有兩塊豎直的擋板（4），擋板（4）上開有擋板溢流口（11），擋板（4）之間還連接有連接板（12），槽體（10）在連接板（12）的上下兩側(cè)分別開有再生液出管口（9）和母液管口（7），所述再生液出管口（9）和母液管口（7）位于槽體（10）后端面并與反應(yīng)槽（5）連通，槽體（10）在后端面的中間底部位置開有與反應(yīng)槽（5）連通的循環(huán)液出管口（8），槽體（10）后端面上部和左右兩側(cè)面還開有與反應(yīng)槽（5）連通的溢流管口（3）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于堿性蝕刻液再生設(shè)備的溫控槽結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述反應(yīng)槽（5）上端平面設(shè)有密封槽（2）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于堿性蝕刻液再生設(shè)備的溫控槽結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述密封槽（2）連有自來(lái)水管（1）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于堿性蝕刻液再生設(shè)備的溫控槽結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述反應(yīng)槽（5）底部設(shè)有與水平面呈α夾角的傾斜底板（13），循環(huán)液出管口（8）設(shè)置在傾斜底板（13）的低面端。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于堿性蝕刻液再生設(shè)備的溫控槽結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述α夾角為30°夾角。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于堿性蝕刻液再生設(shè)備的溫控槽結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述槽體（10）、擋板（4）均采用聚丙烯塑膠板。