[實用新型]一種光學元件鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201220423536.0
• 申請日: 2012-08-24
• 公開（公告）號: CN202786405U
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 劉景峰
• 申請（專利權）人: 北京奇峰藍達光學科技發展有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 北京中創陽光知識產權代理有限責任公司 11003
• 代理人: 尹振啟;張顯光

1.一種光學元件鍍膜裝置，該裝置設置有真空鍍膜室，其特征在于，所述鍍膜室內設置有蒸發鍍膜原材料的蒸發源，還設置有電離蒸氣粒子的離子源，鍍膜室頂部設置有膜厚控制儀，膜厚控制儀帶有可在水平方向旋轉的工件盤，待鍍膜基片固定在所述工件盤上被帶動旋轉，適配于基片的旋轉路徑設置有擋板，基片旋轉至擋板上方時擋板可遮擋部分鍍膜區域。

2.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述蒸發源包括盛放鍍膜原材料的坩堝，坩堝下部設置有電子槍。

3.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述擋板形狀依據待鍍膜基片形狀確定。