[實用新型]晶體高溫退火槽的槽底構造有效
| 申請號： | 201220421816.8 | 申請日： | 2012-08-23 |
| 公開（公告）號： | CN203144558U | 公開（公告）日： | 2013-08-21 |
| 發明（設計）人： | 萬文;萬黎明 | 申請（專利權）人： | 巢湖市環宇光學技術有限公司 |
| 主分類號： | C30B33/02 | 分類號： | C30B33/02 |
| 代理公司： | 安徽匯樸律師事務所 34116 | 代理人： | 胡敏 |
| 地址： | 238000 *** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 晶體 高溫 退火 構造 | ||
【權利要求書】：
1.一種晶體高溫退火槽的槽底構造，包括底層，其特征在于，所述底層的頂面固定有保護層。?
2.根據權利要求1所述的晶體高溫退火槽的槽底構造，其特征在于，所述底層由若干基層疊加固定而成。?
3.根據權利要求2所述的晶體高溫退火槽的槽底構造，其特征在于，所述保護層的厚度與所述基層的厚度之比為1.6：1～2.0:1。?
4.根據權利要求2或3所述的晶體高溫退火槽的槽底構造，其特征在于，所述基層的厚度有30～60mm。?
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