[實用新型]研磨墊及研磨裝置有效
| 申請號： | 201220413058.5 | 申請日： | 2012-08-17 |
| 公開（公告）號： | CN202702002U | 公開（公告）日： | 2013-01-30 |
| 發明（設計）人： | 唐強;洪中山 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/26 | 分類號： | B24B37/26;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 研磨 裝置 | ||
1.一種研磨墊，其特征在于，所述研磨墊包括內部區域和外部區域，所述外部區域位于所述內部區域的外側，所述內部區域內設有若干同心的圓形溝槽，所述若干同心的圓形溝槽以研磨墊的中心為圓心，所述外部區域間隔設置若干由內向外發散的導流槽。
2.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述導流槽的內側端連接至所述內部區域中最外側的圓形溝槽，所述導流槽的外側端連接至外部區域的外邊緣。
3.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述導流槽包括第一槽和第二槽，所述第一槽和所述第二槽間隔設置，所述第一槽和第二槽的內側端分別連接至所述內部區域中最外側的圓形溝槽，所述第一槽的外側端連接至所述研磨墊的邊緣，所述第二槽的長度小于所述第一槽的長度。
4.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述導流槽是曲線槽，所述曲線槽的彎曲方向和研磨墊的旋轉方向相對應。
5.根據權利要求4所述的研磨墊，其特征在于，所述導流槽呈拋物線型。
6.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述導流槽是直線槽。
7.根據權利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述內部區域中最外側的圓形溝槽距離研磨墊的中心距離是研磨墊的半徑長度的2/3-3/4倍。
8.一種研磨裝置，包括研磨頭、研磨墊整理器、研磨平臺與研磨墊，所述研磨墊鋪設于所述研磨平臺上，所述研磨頭與所述研磨墊整理器分別設置于所述研磨墊上，其特征在于，所述研磨墊采用如權利要1～7中任意一項所述的研磨墊。
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