[實用新型]氣體處理容器用整流裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201220412367.0 | 申請日： | 2012-08-17 |
| 公開（公告）號： | CN202719916U | 公開（公告）日： | 2013-02-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 藤本惠美子;清水徹;加藤剛 | 申請（專利權(quán)）人： | 日立造船株式會社 |
| 主分類號： | F28F9/22 | 分類號： | F28F9/22 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290 | 代理人： | 李雪春;武玉琴 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氣體 處理 容器 整流 裝置 | ||
1.一種氣體處理容器用整流裝置，在容器上形成有從容器上部向下方輸送氣體的氣體通路，在容器的上部側(cè)面開設(shè)有氣體導(dǎo)入口，并且將氣體從氣體導(dǎo)入口導(dǎo)入容器內(nèi)并進行整流，所述氣體處理容器用整流裝置的特征在于包括：
氣體導(dǎo)入流路，將從斜下方供給的氣體轉(zhuǎn)向水平方向并送入氣體導(dǎo)入口；
迂回空間，形成于氣體通路的上端部，且使氣體導(dǎo)入口從側(cè)方連通；
臺階部和傾斜導(dǎo)向部，設(shè)置在迂回空間；
水平葉片，沿上下方向以多層配置在氣體導(dǎo)入口的開口面上；以及
整流格柵，配置在比氣體導(dǎo)入口更低位的氣體通路中，
臺階部包括下垂壁，所述下垂壁距氣體導(dǎo)入口規(guī)定距離且從頂壁垂下，
傾斜導(dǎo)向部從臺階部向下游側(cè)下方傾斜，將氣體導(dǎo)向下方，
越低位的水平葉片對氣流的阻力越大。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理容器用整流裝置，其特征在于，越低位的所述水平葉片越向下游側(cè)下方傾斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣體處理容器用整流裝置，其特征在于，
所述水平葉片在從前端到中間的彎曲位置為止的范圍上以規(guī)定的導(dǎo)入角傾斜，并且從彎曲位置到后端為止的范圍上以規(guī)定的排出角傾斜，
排出角被設(shè)定為大于導(dǎo)入角。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣體處理容器用整流裝置，其特征在于，
多個水平葉片中位于最上層的水平葉片不傾斜，
在頂壁與最上層的水平葉片之間形成的分離流路部的后方，所述下垂壁相對配置。
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