[實(shí)用新型]多量子阱半導(dǎo)體激光器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220411336.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-08-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN202712685U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-01-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張普;劉興勝;熊玲玲;王貞福;劉暉;聶志強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | H01S5/343 | 分類號(hào): | H01S5/343 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 陳廣民 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多量 半導(dǎo)體激光器 | ||
1.多量子阱半導(dǎo)體激光器,包括多個(gè)量子阱層以及設(shè)置于各量子阱層之間的勢(shì)壘層,其特征在于:每個(gè)量子阱層設(shè)置有一個(gè)或多個(gè)發(fā)光區(qū),相鄰量子阱層的發(fā)光區(qū)相互錯(cuò)開(kāi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多量子阱半導(dǎo)體激光器,其特征在于:所述多量子阱半導(dǎo)體激光器由依次設(shè)置的N+-GaAs襯底、N+-GaAs緩沖層、N-AlGaAs上限制層、InGaP上波導(dǎo)層、多個(gè)所述GaInAsP量子阱層及相應(yīng)的InGaP勢(shì)壘層、InGaP下波導(dǎo)層、P-AlGaAs下限制層、P-GaAs頂層、P++-GaAs歐姆接觸層組成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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