[實用新型]兩級負壓供墨機構

有效

• 申請號: 201220403765.6
• 申請日: 2012-08-15
• 公開（公告）號: CN202764414U
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 李成林;張莉華;肖乾蓉
• 申請（專利權）人: 成都頂呱呱信息技術有限公司
• 主分類號: B41J2/175
• 分類號: B41J2/175
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.兩級負壓供墨機構，其特征在于：包括輔助供墨室（6），位于輔助供墨室（6）下方的主供墨室（1），設置在主供墨室（1）內的滑道（2），設置在該滑動（2）上并與之相匹配的活塞（3），以及設置在主供墨室（1）下端的噴墨口（4），在該噴墨口（4）貼附有一層海綿（9）；其中，在輔助供墨室（6）的頂部和底部分別設有通孔，而在滑道（2）的側邊則開設有一道與外界氣壓相通的縫隙，在活塞（3）上設有一根彈簧（5），該彈簧（5）一端與滑道（2）的左端緊固連接，在所述輔助供墨室（6）的下端還設有一個用以抵擋活塞（3）的封閉氣囊（8）。

2.根據權利要求1所述的兩級負壓供墨機構，其特征在于：所述活塞（3）由聚乙烯制成。

3.根據權利要求2所述的兩級負壓供墨機構，其特征在于：所述活塞（3）上設有一道貫穿該活塞（3）且用以連通輔助供墨室（6）與主供墨室（1）的供墨通道（7）。