[實用新型]一種干法刻蝕設備有效
| 申請號： | 201220397628.6 | 申請日： | 2012-08-10 |
| 公開（公告）號： | CN202796846U | 公開（公告）日： | 2013-03-13 |
| 發明（設計）人： | 蔣會剛;劉華鋒;劉佳;任志強;謝海征 | 申請（專利權）人： | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01J37/244 |
| 代理公司： | 北京派特恩知識產權代理事務所(普通合伙) 11270 | 代理人： | 張振偉;王黎延 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 刻蝕 設備 | ||
1.一種干法刻蝕設備，包括反應腔，其特征在于，所述反映腔中設置有顏色傳感器，所述顏色傳感器位于能與所述反應腔隔絕的空間中，所述空間通過活動擋板與所述反應腔封閉或連通；
所述活動擋板連接于外部控制部件，所述控制部件控制所述活動擋板移動，使所述空間與所述反應腔保持封閉或連通。
2.根據權利要求1所述的干法刻蝕設備，其特征在于，所述反應腔中還設置有擋光板；
所述擋光板上設置有槽，所述活動擋板封閉所述槽的槽口；所述顏色傳感器位于所述槽與所述活動擋板封閉的空間內。
3.根據權利要求1所述的干法刻蝕設備，其特征在于，所述顏色傳感器為能檢測出所述反應腔中氣體變為紅色或黃色的傳感器。
4.根據權利要求3所述的干法刻蝕設備，其特征在于，所述顏色傳感器為對紅色或黃色氣體敏感的傳感器。
5.根據權利要求1至4任一項所述的干法刻蝕設備，其特征在于，所述干法刻蝕設備還包括下部電極，所述下部電極的表面分布有表面浮點；
所述表面浮點設置在玻璃基板上的面板與面板之間的區域。
6.根據權利要求5所述的干法刻蝕設備，其特征在于，所述干法刻蝕設備還包括靜電吸盤，所述靜電吸盤支撐吸附玻璃基板。
7.根據權利要求6所述的干法刻蝕設備，其特征在于，所述干法刻蝕設備還包括背冷卻裝置，所述背冷卻裝置位于所述下部電極下方。
8.根據權利要求7所述的干法刻蝕設備，其特征在于，所述下部電極上還設置有氣孔；
所述背冷卻裝置通過管路與所述下部電極上的所述氣孔連接。
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