[實用新型]激光反射鏡有效
| 申請號: | 201220397032.6 | 申請日: | 2012-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN202815247U | 公開(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發明(設計)人: | 卜軼坤;關振奮;吳冠偉;張慎興 | 申請(專利權)人: | 晉譜(福建)光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/08 | 分類號: | G02B5/08;G02B1/10;B32B9/04 |
| 代理公司: | 福州市鼓樓區博深專利代理事務所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 林志崢 |
| 地址: | 351115 福建省莆*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 反射 | ||
1.一種激光反射鏡,包括基底層,其特征在于,所述基底層上依次設有由多層四分之一光學厚度薄膜層構成的高反射膜堆、由多層二分之一光學厚度薄膜層構成的連接膜堆、由多層四分之一光學厚度薄膜層構成的激光抵抗膜堆和由多層二分之一光學厚度薄膜層構成的保護膜堆。
2.根據權利要求1所述的激光反射鏡,其特征在于,所述高反射膜堆由高折射率薄膜層和低折射率薄膜層依次交替疊加組成,所述高折射率薄膜層是TiO2薄膜層、Nb2O5薄膜層和Ta2O5薄膜層中的一種,所述低折射率薄膜層是SiO2薄膜層。
3.根據權利要求2所述的激光反射鏡,其特征在于,所述高反射膜堆最外側與所述連接膜堆貼合的薄膜層為SiO2薄膜層。
4.根據權利要求1所述的激光反射鏡,其特征在于,所述激光抵抗膜堆由具有高損傷閥值的薄膜層和低折射率薄膜層依次交替疊加組成,所述有高損傷閥值的薄膜層是AL2O3薄膜層、Y2O3薄膜層、HfO2薄膜層中的一種,所述低折射率薄膜層為SiO2薄膜層。
5.根據權利要求4所述的激光反射鏡,其特征在于,所述激光抵抗膜堆設有奇數層的薄膜層。
6.根據權利要求1-5任一項所述的激光反射鏡,其特征在于,所述連接膜堆是由SiO2薄膜層組成。
7.根據權利要求1-5任一項所述的激光反射鏡,其特征在于,所述保護膜堆是由SiO2薄膜層組成。?
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