[實(shí)用新型]一種二氯二氫硅除雜設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220391994.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-08-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202924742U | 公開(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 萬燁;嚴(yán)大洲;毋克力;肖榮輝;湯傳斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國恩菲工程技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C01B33/107 | 分類號(hào): | C01B33/107 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成;黃德海 |
| 地址: | 100038*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 二氯二氫硅 設(shè)備 | ||
1.一種二氯二氫硅除雜設(shè)備,其特征在于,包括提純塔,所述提純塔包括:?
填料提純區(qū),所述填料提純區(qū)設(shè)有將待除雜的液相二氯二氫硅輸送進(jìn)所述提純塔內(nèi)的進(jìn)料口,所述填料提純區(qū)對(duì)由所述進(jìn)料口提供的液相二氯二氫硅進(jìn)行粗提純,得到氣相二氯二氫硅和液態(tài)高沸物;和?
吸附區(qū),所述吸附區(qū)設(shè)在所述填料提純區(qū)上方且所述吸附區(qū)內(nèi)配置有吸附劑,以對(duì)所述氣相二氯二氫硅進(jìn)行精提純來除去其中的雜質(zhì),其中,?
所述填料提純區(qū)的下方設(shè)有進(jìn)氣口,通過所述進(jìn)氣口向所述提純塔內(nèi)提供氣相的二氯二氫硅,?
所述吸附區(qū)的上方設(shè)有出氣口,以將經(jīng)精提純的氣相二氯二氫硅排出所述提純塔。?
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二氯二氫硅除雜設(shè)備,其特征在于,所述提純塔還具有:?
排液口,所述排液口設(shè)在所述提純塔的底部以將所述液態(tài)高沸物排出所述提純塔。?
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的二氯二氫硅除雜設(shè)備,其特征在于,還包括:?
再沸器,所述再沸器與所述排液口相連,將其中的液態(tài)高沸物加熱成富含雜質(zhì)的氣相氯硅烷。?
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的二氯二氫硅除雜設(shè)備,其特征在于,加熱得到的所述氣相氯硅烷被通過所述進(jìn)氣口送入所述提純塔以便與所述填料提純區(qū)的液相二氯二氫硅進(jìn)行傳熱、傳質(zhì)。?
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的二氯二氫硅除雜設(shè)備,其特征在于,還包括:?
高沸物冷卻器,所述高沸物冷卻器與所述排液口相連以冷卻部分液態(tài)氯硅烷并采出。?
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二氯二氫硅除雜設(shè)備,其特征在于,還包括:?
冷凝器,所述冷凝器將經(jīng)精提純的氣相二氯二氫硅冷卻為液相二氯二氫硅。?
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的二氯二氫硅除雜設(shè)備,其特征在于,冷卻得到的液相二氯二氫硅的一部分被回流至所述提純塔。?
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二氯二氫硅除雜設(shè)備,其特征在于,所述填料提純區(qū)填充有波紋板金屬絲網(wǎng)填料。?
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二氯二氫硅除雜設(shè)備,其特征在于,所述吸附劑為活性炭吸附劑。?
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