[實用新型]一種磁控濺射離子鍍軸承鋼球鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201220391100.8
• 申請日: 2012-08-08
• 公開（公告）號: CN202786409U
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 鄭建明;肖繼明;袁啟龍;李言;章小林;高崗
• 申請（專利權）人: 西安理工大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 西安弘理專利事務所 61214
• 代理人: 李娜

1.一種磁控濺射離子鍍軸承鋼球鍍膜裝置，設置在磁控濺射離子鍍真空腔中，其特征在于：包括設置在轉軸（8）上放置軸承鋼球（9）的托盤（10），所述托盤（10）通過四根拉簧（5）支撐在所述轉軸（8）上端的支撐鋼球上，所述轉軸（8）上水平設有滾輪軸（11）且所述滾輪軸（11）的一端設有滾輪（12），所述滾輪（12）與所述托盤（10）底面接觸且使所述托盤（10）傾斜，所述轉軸（8）在輸入軸（4）的驅動下做旋轉運動，所述托盤（10）在所述支撐鋼球和所述滾輪（12）的作用下作偏擺運動，從而使所述托盤（10）內的軸承鋼球（9）同時作公轉和自轉運動。

2.如權利要求1所述的磁控濺射離子鍍軸承鋼球鍍膜裝置，其特征在于：所述四根拉簧（5）通過滑塊（2）固定在腔內導軌（1）上。

3.如權利要求1或2所述的磁控濺射離子鍍軸承鋼球鍍膜裝置，其特征在于：所述轉軸（8）設置在軸承座（7）上且通過傳動鍵（6）與所述輸入軸（4）連接，所述軸承座（7）設置在底板（3）上。