[實用新型]高度可調的壓塊有效
| 申請號: | 201220386861.4 | 申請日: | 2012-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN202839634U | 公開(公告)日: | 2013-03-27 |
| 發明(設計)人: | 鄭恢康;詹洪堅;徐建榮 | 申請(專利權)人: | 蘇州瑞得恩光能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/042 | 分類號: | H01L31/042 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
| 地址: | 215101 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高度 可調 | ||
1.一種高度可調的壓塊,包括壓塊主體(1),其特征在于:還包括一個滑塊(2),所述滑塊(2)連接在所述壓塊主體(1)的固定面(11)上,所述滑塊(2)相對于所述固定面(11)的高度可調。
2.根據權利要求1所述的高度可調的壓塊,其特征在于:所述固定面(11)的兩個表面均設有第一齒紋(12),所述滑塊(2)為U型夾持結構,所述滑塊(2)的兩個夾持面的內表面設有與所述第一齒紋(12)相咬合的第二齒紋(21)。
3.根據權利要求2所述的高度可調的壓塊,其特征在于:所述固定面(11)上的第一齒紋(12)向下延伸,所述滑塊(2)上第二齒紋(21)向上延伸。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





