[實用新型]一種鍍膜設備

有效

• 申請號: 201220383503.8
• 申請日: 2012-08-03
• 公開（公告）號: CN202786408U
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 王策;李先林;彭柱根;伍能
• 申請（專利權）人: 海南漢能光伏有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 魏曉波

1.一種鍍膜設備，包括真空腔室（11）、布氣管道以及在所述真空腔室（11）中相對設置的基片（12）和靶材（13），其特征在于，所述布氣管道設置在所述真空腔室（11）內的進氣口（14）具體為兩組，包括第一組進氣口和第二組進氣口，其中的所述第一組進氣口設置在靠近所述靶材（13）的一側，所述第二組進氣口設置在遠離所述靶材（13），且靠近所述基片（12）的一側。

2.根據權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于，所述第一組進氣口和所述第二組進氣口的開設方向均指向所述基片（12）和所述靶材（13）的中心部分。

3.根據權利要求2所述的鍍膜設備，其特征在于，所述第一組進氣口和所述第二組進氣口的具體數量均為相對設置的兩個。

4.根據權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于，所述布氣管道內的氣體為混合氣體，包括反應氣體和放電氣體。

5.根據權利要求4所述的鍍膜設備，其特征在于，所述放電氣體具體為Ar，所述反應氣體包括氧氣、氮氣、甲烷和硫化氫。

6.根據權利要求1-5任意一項所述的鍍膜設備，其特征在于，所述布氣管道內氣體的流量大小由MFC控制。

7.根據權利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于，所述第一組進氣口的進氣流量具體為80sccm，所述第二組進氣口的進氣流量具體為20sccm。

8.根據權利要求6所述的鍍膜設備，其特征在于，所述第一組進氣口的進氣流量具體為60sccm，所述第二組進氣口的進氣流量具體為40sccm。