[實(shí)用新型]高溫蝕刻工藝槽有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220376750.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202712136U | 公開(公告)日: | 2013-01-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 耿彪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 耿彪 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/306 |
| 代理公司: | 北京神州華茂知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11358 | 代理人: | 吳照幸 |
| 地址: | 101125 北京市通*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高溫 蝕刻 工藝 | ||
1.一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于:包括槽蓋、防腐外殼、保溫隔熱層、加熱裝置、抑制氣體揮發(fā)裝置、降溫裝置、工藝槽本體、連接供液裝置,所述槽蓋位于工藝槽本體頂部,保溫隔熱層位于防腐外殼內(nèi),工藝槽本體位于保溫隔熱層與工藝槽之間,加熱裝置設(shè)置在工藝槽本體底部,抑制氣體揮發(fā)裝置固定在工藝槽本體的上部,降溫裝置固定在工藝槽本體內(nèi)壁,連接供液裝置從工藝槽本體頂部插入到工藝槽本體內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于:所述槽蓋包括兩塊蓋板、開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)、密封減震碰撞條,開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)分別與兩塊蓋板連接,密封減震碰撞條位于兩塊蓋板關(guān)閉時(shí)的中間縫隙處,所述開啟關(guān)閉動(dòng)力機(jī)構(gòu)用于自動(dòng)開啟或關(guān)閉槽蓋。
3.如權(quán)利要求1所述的一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于:所述防腐外殼是采用聚丙烯板材焊接加工而成的防腐外殼。
4.如權(quán)利要求1所述的一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于:所述保溫隔熱層采用耐火材料。
5.如權(quán)利要求1所述的一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于:所述加熱裝置為并排設(shè)置的若干個(gè)加熱燈管。
6.如權(quán)利要求1所述的一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于:所述抑制氣體揮發(fā)裝置為若干個(gè)冷凝回流盤管。
7.如權(quán)利要求1所述的一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于:所述降溫裝置包括降溫盤管、制冷裝置、冷卻液體,降溫盤管與制冷裝置連接,冷卻液體是在降溫盤管與制冷裝置之中循環(huán)的冷卻液體。
8.如權(quán)利要求1所述的一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于:所述工藝槽本體采用石英材料,在工藝槽本體底部設(shè)有橫截面為V形的排放口。
9.如權(quán)利要求1所述的一種高溫蝕刻工藝槽,其特征在于:所述連接供液裝置為若干個(gè)供液補(bǔ)液管道。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





