[實用新型]一種圓管還原爐

有效

• 申請號: 201220375211.X
• 申請日: 2012-08-01
• 公開（公告）號: CN202786368U
• 公開（公告）日: 2013-03-13
• 發明（設計）人: 肖民;陳風雷;林桂生;王偉杰;殷宏華
• 申請（專利權）人: 贛州遠馳新材料有限公司
• 主分類號: C22B5/12
• 分類號: C22B5/12;C22B34/36;F27B5/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及氧化鎢還原系統，具體為一種圓管還原爐。

背景技術

在氧化鎢還原工藝中，需要用到圓管還原爐。圓管還原爐是以氫氣作為還原氣氛，在設定的工藝溫度條件下，對粉末料進行還原的大型設備，現在一般使用十五根爐管的還原爐，爐子全長約16米，寬約3米，高約2.3米，熱最高工藝溫度可達1050℃，日產量可達1噸以上。現有的十五管爐在正常生產時，需要輸入的氫氣流量為40m³/h,這樣雖然能滿足生產需要，但是由于氫氣輸入速度較大，造成大量過余氫氣的浪費，提高了生產成本。

實用新型內容

本實用新型所解決的技術問題在于提供一種圓管還原爐，以解決上述背景技術中的缺點。

本實用新型所解決的技術問題采用以下技術方案來實現：

一種圓管還原爐，包括回氫管、上排管和下排管，所述上排管為八根管道，所述下排管為七根管道，所述回氫管與所述上排管和下排管相通，所述回氫管上連接有氫氣旁通管，氫氣通過氫氣旁通管回流至所述回氫管，所述氫氣旁通管上設有自動閥。

本實用新型中，所述氫氣旁通管的氫氣回流入口處設有自動開閉的彈片。

有益效果

本實用新型結構簡單，能保證進料和出料過程中氫氣的流量穩定，而且減少了氫氣浪費，降低了生產成本。

附圖說明

圖1為一種圓管還原爐的結構圖。

具體實施方式

為了使本實用新型實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結合具體圖示，進一步闡述本實用新型。

參見圖1，一種圓管還原爐的結構圖，一種圓管還原爐，包括回氫管4、上排管3和下排管2，所述上排管3為八根管道，所述下排管2為七根管道，所述回氫管4與所述上排管和下排管相通，所述回氫管4上連接有氫氣旁通管1，氫氣通過氫氣旁通管1回流至所述回氫管4，所述氫氣旁通管上設有自動閥5。

本實用新型中，所述氫氣旁通管的氫氣回流入口處設有自動開閉的彈片。

當上排管進料時，為了節約氫氣，還原爐將自動把氫氣流量由原來的40m³/h調整為12m³/h，這時因為減少的氫氣會導致爐子進氫壓力增大而影響下層爐管氫氣穩定，為了確保下排管氫氣壓力的平衡穩定，當上排管進料、氫氣流量降低時氫氣旁通管上的自動閥會打開，這樣多余的氫氣就通過氫氣旁通管回流到回氫管中，這樣就保證了下排管的氫氣流量的穩定。

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征及本實用新型的優點，本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內，本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。