[實(shí)用新型]一種高強(qiáng)度鈷靶有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220366708.5 | 申請(qǐng)日： | 2012-07-26 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN202825019U | 公開（公告）日： | 2013-03-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 徐學(xué)禮;何金江;李勇軍;范亮;呂保國;尚再艷;顧新福;黃志勇;蔣宇暉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 北京有色金屬研究總院;有研億金新材料股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B23K33/00 | 分類號(hào)： | B23K33/00 |
| 代理公司： | 北京眾合誠成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11246 | 代理人： | 薄觀玖 |
| 地址： | 100088 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 強(qiáng)度 | ||
1.一種高強(qiáng)度鈷靶，其特征在于：所述高強(qiáng)度鈷靶通過在靶材（1）與背板（3）間加入中間層（2），分別進(jìn)行焊接而成，靶材（1）與背板（3）焊接面上分別設(shè)置一系列凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度鈷靶，其特征在于：所述靶材（1）的材質(zhì)為鈷金屬或鈷基合金材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度鈷靶，其特征在于：所述凹槽呈同心環(huán)狀或螺旋狀排列。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度鈷靶，其特征在于：所述凹槽的截面為V形、倒梯形、圓弧形或矩形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度鈷靶，其特征在于：所述凹槽的深度為0.01?mm~5?mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度鈷靶，其特征在于：所述中間層（2）的硬度分別低于靶材（1）和背板（3）的硬度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度鈷靶，其特征在于：所述中間層（2）的材質(zhì)為銀金屬材料、鋅金屬材料、鋁金屬材料或鎂鋁合金材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高強(qiáng)度鈷靶，其特征在于：所述中間層（2）厚度大于靶材（1）和背板（3）焊接面上的凹槽深度之和。?
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