[實用新型]一種集成吸氣劑的MEMS薄膜封裝結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220366633.0
• 申請日: 2012-07-27
• 公開（公告）號: CN202687944U
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 秦毅恒;歐文;張昕
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇物聯(lián)網(wǎng)研究發(fā)展中心
• 主分類號: B81B7/00
• 分類號: B81B7/00
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務(wù)所 32104
• 代理人: 殷紅梅

1.一種集成吸氣劑的MEMS薄膜封裝結(jié)構(gòu)，包括薄膜封帽及位于所述薄膜封帽下方的承載襯底（1）；其特征是：所述薄膜封帽與承載襯底（1）間設(shè)有用于容納MEMS結(jié)構(gòu)（2）的腔體（9），所述腔體（9）中收納有MEMS結(jié)構(gòu)（2），所述MEMS結(jié)構(gòu)（2）與薄膜封帽或承載襯底（1）相連；所述薄膜封帽包括位于內(nèi)側(cè)的吸氣劑層（5）及位于外側(cè)的最終密封層，薄膜封帽通過薄膜封帽中的吸氣劑層（5）及最終密封層與承載襯底（1）相連，并通過吸氣劑層（5）與承載襯底（1）間形成腔體（9）內(nèi)壁；最終密封層位于吸氣劑層（5）外側(cè)，并將MEMS結(jié)構(gòu)（2）密封于腔體（9）內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成吸氣劑的MEMS薄膜結(jié)構(gòu)，其特征是：所述吸氣劑層（5）與最終密封層間設(shè)有一層或多層中間層，所述中間層與吸氣劑層（5）的形狀相一致。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成吸氣劑的MEMS薄膜結(jié)構(gòu)，其特征是：所述吸氣劑層（5）與腔體（9）相接觸的表面呈粗糙或多孔的表面，吸氣劑層（5）與腔體（9）相接觸的表面粗糙度的均方根值為5nm~1000nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成吸氣劑的MEMS薄膜結(jié)構(gòu)，其特征是：所述承載襯底（1）的材料為硅基材料、陶瓷材料或高分子材料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成吸氣劑的MEMS薄膜結(jié)構(gòu)，其特征是：所述薄膜封帽為通用封帽（11）或光探測器封帽（15）。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的集成吸氣劑的MEMS薄膜結(jié)構(gòu)，其特征是：所述吸氣劑層（5）上設(shè)有若干吸氣劑層通孔（6），所述吸氣劑層通孔（6）與腔體（9）相連通。