[實用新型]真空鍍膜弧光輝光協同放電物理氣相沉積裝置有效
| 申請號： | 201220357592.9 | 申請日： | 2012-07-23 |
| 公開（公告）號： | CN202830159U | 公開（公告）日： | 2013-03-27 |
| 發明（設計）人： | 錢鋒;林晶;李恒;孫智慧 | 申請（專利權）人： | 深圳市天星達真空鍍膜設備有限公司;哈爾濱商業大學 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518116 廣東省深圳市龍崗*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空鍍膜 弧光 輝光 協同 放電 物理 沉積 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空鍍膜弧光輝光協同放電物理氣相沉積裝置，其特征在于它包括磁鐵、圓柱靶、靶面，磁鐵設置在圓柱靶上，靶面設置在圓柱靶外圍。
2.根據權利要求1所述的真空鍍膜弧光輝光協同放電物理氣相沉積裝置，其特征在于所述的磁鐵包括至少一組磁鐵，磁鐵均勻對稱設置在圓柱靶上。
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