[實用新型]涂布機顯像機藥液噴吐流量的監測裝置有效
| 申請號： | 201220335844.8 | 申請日： | 2012-07-11 |
| 公開（公告）號： | CN202736894U | 公開（公告）日： | 2013-02-13 |
| 發明（設計）人： | 丘志春;陳顯旻;吳長明 | 申請（專利權）人： | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人： | 張驥 |
| 地址： | 201206 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 涂布機 顯像 藥液 噴吐 流量 監測 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種涂布機顯像機藥液噴吐流量的監測裝置，其特征在于：包括流量監測主控制器，流量監測主控制器的輸入連接信號放大器的一端，信號放大器的另一端連接到位傳感器，到位傳感器設置于浮球流量計的浮球上；流量監測主控制器的輸出連接電磁閥電信號采集分路，電磁閥電信號采集分路連接噴吐控制電磁閥。
2.根據權利要求1所述的涂布機顯像機藥液噴吐流量的監測裝置，其特征在于：所述到位傳感器為光電式到位傳感器。
3.根據權利要求1或2所述的涂布機顯像機藥液噴吐流量的監測裝置，其特征在于：所述信號放大器為光電式信號放大器。
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- 專利分類
H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
