[實用新型]一種活性焦的氨再生裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220333827.0
• 申請日: 2012-07-10
• 公開（公告）號: CN202683078U
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蘇軍劃;李超;李建瀏;陶愛平;胡永鋒;沈煜暉
• 申請（專利權(quán)）人: 中國華電工程（集團）有限公司;華電環(huán)保系統(tǒng)工程有限公司
• 主分類號: B01D53/96
• 分類號: B01D53/96;B01D53/76;B01D53/50;B01D53/14
• 代理公司: 北京聯(lián)創(chuàng)佳為專利事務(wù)所(普通合伙) 11362
• 代理人: 郭防

1.一種活性焦的氨再生裝置，其特征在于，包括：活性焦再生塔（1）、煙道（2）、電加熱器（3）、NH₃測量裝置（4）、NH₃噴射裝置（5）、計算機控制端（11）和風(fēng)機（12），活性焦再生塔（1）中設(shè)有擋板，將活性焦再生塔（1）分為再生加熱反應(yīng)區(qū)I區(qū)和再生冷卻區(qū)II區(qū)，電加熱器（3）和NH₃測量裝置（4）分別設(shè)于活性焦再生塔（1）I區(qū)和II區(qū)之間的煙道（2）上，NH₃噴射裝置（5）設(shè)于NH₃測量裝置（4）和II區(qū)之間的煙道（2）上，風(fēng)機（12）設(shè)于NH₃噴射裝置（5）和II區(qū)之間的煙道（2）上，NH₃測量裝置（4）、NH₃噴射裝置（5）和風(fēng)機（12）分別與計算機控制端（11）連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的活性焦的氨再生裝置，其特征在于，所述的NH₃測量裝置（4）與活性焦再生塔（1）I區(qū)之間的煙道（2）上還設(shè)有排氣閥（6）、水槽（7）和氣壓表（10），排氣閥（6）與水槽（7）通過排氣管連接；排氣閥（6）和氣壓表（10）分別與計算機控制端（11）連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的活性焦的氨再生裝置，其特征在于，所述的活性焦再生塔（1）I區(qū)與排氣閥（6）之間的煙道（2）上還依次設(shè)有SO₂測量裝置（8）、NH₃測量裝置（4）、NH₃噴射裝置（5）、亞硫酸銨結(jié)晶槽（9）及SO₂測量裝置（8），SO₂測量裝置（8）、NH₃測量裝置（4）、NH₃噴射裝置（5）分別與計算機控制端（11）連接。