[實用新型]一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構

有效

• 申請號: 201220331363.X
• 申請日: 2012-07-09
• 公開（公告）號: CN202705460U
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 羅松松;葛治亮;李險峰
• 申請（專利權）人: 中國建材國際工程集團有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 上海三方專利事務所 31127
• 代理人: 吳干權;李美立

1.一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，包括密封法蘭(1)、光面法蘭(2)、?內層密封圈(3)、外層密封圈(4)、支架(5)、密封槽(6)、泄氣槽(7)、泄氣孔(8)和真空泵，其特征在于所述密封法蘭(1)的密封面上開設有密封槽(6)，密封槽(6)內設有內層密封圈(3)和外層密封圈(4)，內層密封圈(3)和外層密封圈(4)之間開設有泄氣槽(7)，泄氣槽(7)上設有泄氣孔(8)?，泄氣槽(7)通過泄氣孔(8)連接真空管道一端，真空管道另一端連接真空泵。

2.如權利要求1所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的內層密封圈(3)和外層密封圈(4)嵌于同一密封槽(6)內。

3.如權利要求1所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的內層密封圈(3)和外層密封圈(4)之間通過支架(5)隔開。

4.如權利要求3所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的支架(5)分為若干段，通過螺釘固定于密封法蘭(1)上，支架(5)下表面開設有泄氣槽(7)。

5.如權利要求1所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的內層密封圈(3)和外層密封圈(4)分別嵌于相互獨立的兩密封槽內。

6.如權利要求1所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的內層密封圈(3)和外層密封圈(4)?在螺栓力或者重力和壓差力的作用下壓緊光面法蘭(2)，形成雙層密封結構。