[實用新型]一種納米圖形化系統及其光響應特性檢測裝置

有效

• 申請號: 201220322833.6
• 申請日: 2012-07-05
• 公開（公告）號: CN202710465U
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 劉盼;郭鵬;于國強;韓秀峰;孫曉玉;周向前
• 申請（專利權）人: 中國科學院物理研究所
• 主分類號: G01N21/25
• 分類號: G01N21/25;G01R31/00
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;尚群

1.一種納米圖形化系統的光響應特性檢測裝置，用于納米圖形化系統在微米和納米圖形化器件微加工和探測中，實時和原位探測微米和納米圖形化材料或器件的光響應特性，其特征在于，包括光發射器、導入光纖、光探測器、CCD成像設備和精密傳導光纖，所述光發射器通過所述精密傳導光纖與所述導入光纖連接，所述光探測器通過所述精密傳導光纖與所述CCD成像設備連接，所述導入光纖及所述光探測器均對應于所述納米圖形化系統的樣品臺設置于所述納米圖形化系統的真空腔內，所述導入光纖用于將所述光發射器發出的光束導入至所述樣品臺的樣品上，所述光探測器用于采集所述樣品的反射光，所述光探測器相對于所述導入光纖設置以采集所述樣品的反射光。

2.如權利要求1所述的納米圖形化系統的光響應特性檢測裝置，其特征在于，還包括光譜儀，所述光譜儀通過所述精密傳導光纖與所述光探測器連接。

3.如權利要求2所述的納米圖形化系統的光響應特性檢測裝置，其特征在于，還包括電極探針，所述電極探針通過電極探針臂與電壓源或電流源連接，所述電極探針與所述樣品分別具有一連接位置和一斷開位置，所述電極探針與所述樣品在連接位置時組成閉合電路。

4.如權利要求3所述的納米圖形化系統的光響應特性檢測裝置，其特征在于，所述電極探針臂與所述導入光纖和/或所述光探測器分別通過結合器安裝在所述真空腔內，所述結合器用于控制所述導入光纖和/或所述光探測器及所述電極探針臂的運動和定位。

5.如權利要求4所述的納米圖形化系統的光響應特性檢測裝置，其特征在于，所述結合器包括固定架及安裝在所述固定架上的光纖滑軌、驅動電機及傳動機構，所述電極探針臂安裝在所述固定架上，所述導入光纖安裝在所述光纖滑軌上，所述光纖滑軌通過所述傳動機構與所述驅動電機連接。

6.如權利要求3所述的納米圖形化系統的光響應特性檢測裝置，其特征在于，所述電極探針為四路電極探針，所述四路電極探針的一對探針與所述電壓源連接，所述四路電極探針的另一對探針與所述電流源連接。

7.如權利要求1、2、3、4、5或6所述的納米圖形化系統的光響應特性檢測裝置，其特征在于，還包括用于會聚所述樣品的反射光的球面鏡，所述球面鏡設置在所述納米圖形化系統的電子束槍下方且與所述光探測器的距離小于所述球面鏡的焦半徑，所述球面鏡上設置有微米級小孔以保證電子束穿過所述球面鏡對所述樣品進行微加工和/或成像。

8.一種納米圖形化系統，包括電源、控制裝置和測量裝置，所述控制裝置與所述測量裝置連接，所述控制裝置和所述測量裝置分別與所述電源連接，所述測量裝置包括電子束槍、真空腔、真空系統、樣品臺和光響應特性檢測裝置，所述真空系統與所述真空腔連接，所述電子束槍及樣品臺均設置在所述真空腔內，所述電子束槍對應于所述樣品臺設置，其特征在于，所述光響應特性檢測裝置為上述的權利要求1～7任意一項所述的納米圖形化系統的光響應特性檢測裝置。

9.一種納米圖形化系統，包括電源、控制裝置和測量裝置，所述控制裝置與所述測量裝置連接，所述控制裝置和所述測量裝置分別與所述電源連接，所述測量裝置包括電子束槍、真空腔、真空系統、樣品臺和光響應特性檢測裝置，所述真空系統與所述真空腔連接，所述電子束槍及樣品臺均設置在所述真空腔內，所述電子束槍對應于所述樣品臺設置，其特征在于，所述光響應特性檢測裝置為上述的權利要求7所述的納米圖形化系統的光響應特性檢測裝置。

10.如權利要求9所述的納米圖形化系統，其特征在于，所述測量裝置還包括寬頻信號測試分析裝置，所述寬頻信號測試分析裝置包括信號傳輸裝置，所述信號傳輸裝置對應于所述樣品臺設置，所述信號傳輸裝置包括高頻探針臂和/或低頻探針臂、探針臂移動機構和探針，所述高頻探針臂和/或低頻探針臂與所述探針臂移動機構連接，所述探針安裝在所述高頻探針臂和/或低頻探針臂的前端，所述電極探針臂分別與所述高頻探針臂和/或低頻探針臂集成于一體。