[實(shí)用新型]一種銅銦鎵硒太陽(yáng)能電池有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220321401.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202721169U | 公開(公告)日: | 2013-02-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭壽;馬給民;保羅·比帝;向光;王蕓 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東凱盛光伏技術(shù)研究院有限公司;東莞日陣薄膜光伏技術(shù)有限公司;廣東凱盛光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0749 | 分類號(hào): | H01L31/0749;H01L31/032 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518000 廣東省東莞市松山湖科技*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 銅銦鎵硒 太陽(yáng)能電池 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種太陽(yáng)能電池,尤其涉及一種銅銦鎵硒太陽(yáng)能電池。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的銅銦鎵硒薄膜光伏太陽(yáng)能芯片制造工藝,采用鈉鈣玻璃基板,以400-500℃的高溫蒸發(fā):銅,銦,鎵,二硒等材料;或先使用濺射工藝,鍍上其中三種金屬單元素材料后,再采用“硒化”工藝,添加硒材料。這是一項(xiàng)很難重復(fù),而且十分緩慢的工藝;還有另一種方法,使用電鍍沉淀工藝,或使用“金屬”或“金屬氧化物”經(jīng)過納米印刷工藝制造;這些工藝皆不適應(yīng)于批量生產(chǎn),單硒化工藝,就可長(zhǎng)達(dá)8小時(shí),并需用大量有毒氣體,比如使用硒化氫來(lái)逐步使銅銦鎵薄膜層硒化成銅銦鎵硒薄膜層。
銅銦鎵硒薄膜層在“高溫”的基板上成型,目的是為了滋長(zhǎng)較大的結(jié)晶,結(jié)晶體起碼該是它本身厚度(1.0-2.0微米)一半以上的厚度。過小的晶體會(huì)產(chǎn)生大量的晶界,導(dǎo)致“電子-空穴”再次重組,降低電池的轉(zhuǎn)換效率。高溫的另一個(gè)目的是促進(jìn)“鈉鈣玻璃”里的“鈉”,在穿過鉬薄膜層后,擴(kuò)散到“銅銦鎵硒”薄膜層里,“鈉”離子能促進(jìn)更多帶有“p-型摻雜物”的“銅銦鎵硒”薄膜的生長(zhǎng),要做到“銅銦鎵硒”這四種元素在高溫下共蒸發(fā)是十分費(fèi)事,同時(shí)極難控制的工藝,不適宜于批量生產(chǎn)。
要在高溫下做好“銅銦鎵硒”薄膜,并能保證它持有最優(yōu)化的化學(xué)成分比例,成為標(biāo)準(zhǔn)的批量生產(chǎn)工藝,我們使用已匹配好化學(xué)成分的“銅銦鎵硒”四元素固態(tài)靶材,用磁控濺射工藝,一次性鍍膜;同時(shí),為避免高溫下“硒”的流失,一般行業(yè)采用的工藝是利用“硒化氫”氣體,來(lái)補(bǔ)充“硒”的流失;但這種氣體有毒,不適應(yīng)批量生產(chǎn);為了避免這個(gè)缺陷,我們使用雙溫區(qū)退火爐,并使用固態(tài)“硒”來(lái)控制“硒”的流失。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能快捷大量生產(chǎn)并在生產(chǎn)過程中不產(chǎn)生有毒氣體的太陽(yáng)能電池。
為解決上述的技術(shù)問題,本實(shí)用新型通過以下方案加以實(shí)現(xiàn):一種銅銦鎵硒太陽(yáng)能電池,它包括鈉鈣玻璃基板和銅銦鎵硒薄膜層,銅銦鎵硒薄膜層電鍍?cè)阝c鈣玻璃基板上。
所述鈉鈣玻璃基板和銅銦鎵硒薄膜層中間鍍有約0.35微米厚鉬薄膜。
所述銅銦鎵硒薄膜層的上表面設(shè)置“p-n結(jié)”區(qū)域。
所述銅銦鎵硒薄膜層上面鍍有0.05微米厚的硫化鎘。
所述硫化鎘上鍍有約0.1微米厚的絕緣層氧化鋅。
所述氧化鋅上鍍有約0.35微米厚的導(dǎo)電透明的氧化鋅參鋁。
所述氧化鋅參鋁上表面設(shè)有約0.05微米厚的鎳。
所述鎳上面設(shè)有約3.0微米厚鋁膜。
所述鋁膜上面鍍有約0.05微米厚保護(hù)鋁的一層保護(hù)鎳。
所述保護(hù)鎳上面鍍有約1.0至4.0毫米厚的鈉鈣覆蓋玻璃。
本實(shí)用新型銅銦鎵硒太陽(yáng)能電池采用“銅銦鎵硒”四元素合成固態(tài)靶材,在退火爐內(nèi)具有富裕的“硒”氣體氣氛,扼制“銅銦鎵硒”薄膜中“硒”的流失,保證了硒在整個(gè)“銅銦鎵硒”薄膜層間的均勻性,保證了高轉(zhuǎn)換率的“銅銦鎵硒”批量生產(chǎn)工藝,并方便快捷,生產(chǎn)過程不產(chǎn)生有毒氣體。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型模片橫截圖;
圖2為本實(shí)用新型的銅銦鎵硒晶相圖;
圖3為本實(shí)用新型的實(shí)施例示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1、2、3所示,一種銅銦鎵硒太陽(yáng)能電池,它包括鈉鈣玻璃基板1和銅銦鎵硒薄膜層3,銅銦鎵硒薄膜層3電鍍?cè)阝c鈣玻璃基板1上,鈉鈣玻璃基板1和銅銦鎵硒薄膜層3中間鍍有約0.35微米厚鉬薄膜2,銅銦鎵硒薄膜層3的上表面設(shè)置“p-n結(jié)”區(qū)域11,銅銦鎵硒薄膜層3上面鍍有0.05微米厚的硫化鎘4,硫化鎘4上鍍有約0.1微米厚的絕緣層氧化鋅5,氧化鋅5上鍍有約0.35微米厚的導(dǎo)電透明的氧化鋅參鋁6,氧化鋅參鋁6上表面鍍約0.05微米厚的鎳7,鎳7上面設(shè)有約3.0微米厚鋁膜8,鋁膜8上面鍍有約0.05微米厚保護(hù)鋁的一層保護(hù)鎳9,保護(hù)鎳9上面鍍有約1.0至4.0毫米厚,或3.2毫米標(biāo)準(zhǔn)厚度的鈉鈣覆蓋玻璃10。
我們首先使用一塊已匹配好化學(xué)成分的“銅,銦,鎵,硒”等四元素合成固態(tài)靶材,在較低的基板溫度下(250-300攝氏度),用“脈沖直流電源濺射”鍍膜,將銅,銦,鎵,硒等元素,一次性電鍍?cè)诓AЩ?上;然后再采用帶有“硒”閉封氣氛的退火爐,在400-500℃高溫下進(jìn)行退火。這工藝縮短了傳統(tǒng)“銅銦鎵硒”制造工藝所需用的時(shí)間,保證了薄膜的優(yōu)化化學(xué)成分;免除了傳統(tǒng)工藝中長(zhǎng)達(dá)八少時(shí)的“硒化工藝”,傳統(tǒng)的“硒化”手段是使用帶“硒”元素的氣體,經(jīng)數(shù)小時(shí)的化學(xué)反應(yīng),從已成型的“銅銦鎵”薄膜的表層,逐步往下“硒化”。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





