[實(shí)用新型]防變形鑄件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201220320748.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202667553U | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘇良磁 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇良磁 |
| 主分類號(hào): | B22C9/03 | 分類號(hào): | B22C9/03 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 362261 福建省*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 變形 鑄件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及鑄造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種防變形鑄件。
背景技術(shù)
鑄造領(lǐng)域中,使用V法鑄造而成的一種鑄件產(chǎn)品,其具有兩側(cè)壁,兩側(cè)壁之間形成開口,該種鑄件鑄造出來后,經(jīng)劃線檢測(cè),約45%變形量很差,特別對(duì)于大開口的鑄件更為明顯,造成大量產(chǎn)品報(bào)廢回爐,增加制造成本;另外在鑄造過程需要在鑄件上設(shè)置切割塊,以便后續(xù)氣割后保證鑄件的完整性,但現(xiàn)有切割塊的側(cè)壁與鑄件主體邊緣重合,這樣在氣割去除切割塊時(shí)不容易找準(zhǔn)氣割的位置,很容易將鑄件破壞,切割塊上的切割塊末端與鑄件平面相切,氣割時(shí)極不容易切割。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題便是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種防變形鑄件,增加產(chǎn)品成品率,且氣割時(shí)容易找到位置、不會(huì)損傷鑄件本體。
本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:一種防變形鑄件,包括鑄件主體和設(shè)置在鑄件主體上的切割塊,所述鑄件主體具有兩側(cè)壁,兩側(cè)壁之間形成開口,兩側(cè)壁之間設(shè)置有若干條沿縱向延伸、且均勻分布的橫向加強(qiáng)筋,該橫向加強(qiáng)筋與所述鑄件主體一體鑄造成型,所述切割塊上的切割塊側(cè)壁與鑄件主體上邊緣的距離為12-16mm,所述切割塊末端在鑄件主體上的高度為5-7mm。
作為優(yōu)選,所述切割塊側(cè)壁與鑄件主體上邊緣的距離為16mm。
作為優(yōu)選,所述切割塊末端在鑄件主體上高度為7mm。
作為優(yōu)選,所述橫向加強(qiáng)筋的橫截面為矩形。
本實(shí)用新型的有益效果在于:由于橫向加強(qiáng)筋的設(shè)置,使得鑄件的變形量降低,大大減少產(chǎn)品報(bào)廢率,降低了產(chǎn)品成本;切割塊側(cè)壁與鑄件邊緣具有一定距離,保證氣割時(shí)容易找到氣割的位置,而且切割塊末端在鑄件上具有一定高度,使得氣割時(shí)容易割除。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:1、鑄件主體;2、橫向加強(qiáng)筋;3、切割塊;31、切割塊側(cè)壁;32、切割塊末端。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
如圖1所示,一種防變形鑄件,包括鑄件主體1和設(shè)置在鑄件主體1上的切割塊3,所述鑄件主體1具有兩側(cè)壁,兩側(cè)壁之間形成開口,兩側(cè)壁之間設(shè)置有若干條沿縱向延伸、且均勻分布的橫向加強(qiáng)筋2,該橫向加強(qiáng)筋2與所述鑄件主體1一體鑄造成型,所述橫向加強(qiáng)筋2的橫截面為矩形。由于橫向加強(qiáng)筋2的設(shè)置,使得鑄件的變形量降低,大大減少產(chǎn)品報(bào)廢率,降低了產(chǎn)品成本。
所述切割塊3上的切割塊側(cè)壁31與鑄件主體1上邊緣的距離為12-16mm,所述切割塊末端32在鑄件主體1上的高度為5-7mm。所述切割塊側(cè)壁31與鑄件主體1上邊緣的距離為16mm,所述切割塊末端32在鑄件主體1上高度為7mm。
切割塊側(cè)壁31與鑄件邊緣具有一定距離,保證氣割時(shí)容易找到氣割的位置,而且切割塊末端32在鑄件上具有一定高度,使得氣割時(shí)容易割除。
以上所述,僅為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例而已,故不能以此限定本實(shí)用新型實(shí)施的范圍,即依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍及說明書內(nèi)容所作的等效變化與修飾,皆應(yīng)仍屬本實(shí)用新型專利涵蓋的范圍內(nèi)。
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