[實用新型]晶圓清洗刷和晶圓清洗裝置有效
| 申請號： | 201220317327.8 | 申請日： | 2012-07-02 |
| 公開（公告）號： | CN202698196U | 公開（公告）日： | 2013-01-30 |
| 發明（設計）人： | 唐強 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | A46B13/02 | 分類號： | A46B13/02;B08B1/04;B08B3/08 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 晶圓清 洗刷 清洗 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種晶圓清洗刷，其特征在于，包括刷盤、第一旋轉軸、第一旋轉馬達以及直線馬達，所述第一旋轉馬達經所述第一旋轉軸驅動所述刷盤轉動，所述直線馬達驅動所述第一旋轉軸作直線位移，所述刷盤是一直徑大于或者等于晶圓的圓盤，所述圓盤的一個表面上設置有若干刷毛。
2.根據權利要求1所述晶圓清洗刷，其特征在于，還包括基板、擺動軸和擺動馬達，所述擺動馬達經所述擺動軸驅動所述基板作弧形擺動，所述第一旋轉馬達穿經所述基板，所述第一旋轉馬達能夠相對所述基板轉動。
3.根據權利要求1所述晶圓清洗刷，其特征在于，所述若干刷毛均勻設置于所述圓盤的一個表面上。
4.一種晶圓清洗裝置，其特征在于，包括用于吸附晶圓的吸盤、第二旋轉軸、第二旋轉馬達、以及如權利要求1~3中任意一項所述的晶圓清洗刷，所述第二旋轉馬達經所述第二旋轉軸驅動所述吸盤轉動。
5.根據權利要求4所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述吸盤具有一個直徑與所述晶圓相匹配的圓形凹槽。
6.根據權利要求5所述晶圓清洗裝置，其特征在于，還包括兩排設有若干晶圓清洗噴嘴的噴水管，所述噴水管分別設置于所述晶圓正反面的斜上方。
7.根據權利要求6所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述晶圓清洗噴嘴的角度可調。
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