[實用新型]圖形化襯底及用于制作所述襯底的掩膜版

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220315633.8
• 申請日: 2012-07-02
• 公開（公告）號: CN202633368U
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發(fā)明（設計）人: 丁海生;李東昇;馬新剛;江忠永;張昊翔;王洋;李超;逯永建;黃捷
• 申請（專利權）人: 杭州士蘭明芯科技有限公司
• 主分類號: H01L33/20
• 分類號: H01L33/20;G03F1/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種圖形化襯底，包括襯底和襯底表面的周期性圖形，其特征在于：所述周期性圖形包括下列情況中的任意一種：(1)由從下至上階梯型依次堆疊的m+1個圓臺、(2)由從下至上階梯型依次堆疊的m+1個橢圓臺、(3)由從下至上階梯型依次堆疊的m+1個多棱臺、(4)由從下至上階梯型依次堆疊的m個圓臺和位于最上端圓臺的1個圓錐、(5)由從下至上階梯型依次堆疊的m個橢圓臺和位于最上端橢圓臺的橢圓錐、(6)由從下至上階梯型依次堆疊的m個多棱臺和位于最上端多棱臺的多棱錐，其中m為自然數，所述m的取值范圍為1＜m＜1000。

2.根據權利要求1所述的圖形化襯底，其特征在于：所述圓臺、橢圓臺、多棱臺、圓錐、橢圓錐或多棱錐的側面還具有凹槽或凸起。

3.根據權利要求2所述的圖形化襯底，其特征在于：所述凹槽或凸起形狀為方形、鋸齒形或不規(guī)則形狀。

4.根據權利要求1所述的圖形化襯底，其特征在于：第i+1個圓臺、橢圓臺或多棱臺位于第i個圓臺、橢圓臺或多棱臺的上方，且第i+1個圓臺、橢圓臺或多棱臺的底面直徑小于第i個圓臺、橢圓臺或多棱臺的頂面直徑，所述i的取值范圍為1≤i＜m。

5.根據權利要求1所述的圖形化襯底，其特征在于：所述圓錐、橢圓錐或多棱錐的側面與底面的夾角為40度-60度。

6.根據權利要求1所述的圖形化襯底，其特征在于：所述圓臺、橢圓臺或多棱臺的側面與底面的夾角為40度-60度。

7.根據權利要求1所述的圖形化襯底，其特征在于：所述周期性圖形的底部直徑為2μm-5μm，高度為1.5μm-5μm，相鄰兩個圖形的底部間距為3μm-10μm。

8.一種用于制作圖形化襯底的掩膜版，其特征在于：所述掩膜版包括圓形陣列、橢圓形陣列或多邊形陣列。

9.根據權利要求8所述的掩膜版，其特征在于：所述圓形陣列、橢圓形陣列或多變形陣列中的每一圓形、橢圓形或多邊形的區(qū)域內部分別包含m+1個同心圓環(huán)、同心橢圓環(huán)或同心多邊形環(huán)。

10.根據權利要求9所述的掩膜版，其特征在于：所述m+1個同心圓環(huán)、同心橢圓環(huán)或同心多邊形環(huán)的邊緣的圖案為方形、鋸齒形或不規(guī)則形狀。

11.根據權利要求8所述的掩膜版，其特征在于：第i+1個圓環(huán)、橢圓形環(huán)或多邊形環(huán)位于第i個圓環(huán)、橢圓環(huán)或多邊形環(huán)的內側，且所述第一個圓環(huán)、橢圓環(huán)或多邊形環(huán)至第m+1個圓環(huán)或橢圓環(huán)或多邊形環(huán)的透光率呈公差非零的等差數列，所述i的取值范圍為1≤i＜m。

12.根據權利要求8所述的掩膜版，其特征在于：所述圓形、橢圓形、多邊形的關鍵尺寸為2μm-5μm，圓形陣列、橢圓形陣列或多邊形陣列的間距為3μm-10μm。

13.根據權利要求8至12任一權利要求所述的掩膜版，其特征在于：所述掩膜版制作權利要求1至7所述任一權利要求所述的圖形化襯底。