[實用新型]一種平面衍射光柵衍射波前檢測系統有效
| 申請號: | 201220303293.7 | 申請日: | 2012-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN202735068U | 公開(公告)日: | 2013-02-13 |
| 發明(設計)人: | 錢林勇;黃元申;徐邦聯;王琦;張大偉;陶春先;倪爭技;莊松林 | 申請(專利權)人: | 上海理工大學 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 上海東創專利代理事務所(普通合伙) 31245 | 代理人: | 寧芝華 |
| 地址: | 200093 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 平面 衍射 光柵 檢測 系統 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種平面衍射光柵衍射波前檢測系統,可廣泛用于平面光柵不同級次衍射波的波前檢測。
背景技術
衍射光柵是利用光的多狹縫衍射效應進行色散,使光波衍射而產生大量光束繼而形成光譜的光柵元件,它是應用在光譜儀器中的核心元件之一。一般來說平面光柵質量的好壞通常直接決定了一臺光譜儀器的優劣,因此平面光柵質量的檢測對于光柵的使用者和制作者來說都是必不可少的。平面光柵檢測的內容包括平面光柵性能及影響平面光柵性能的主要參數的測量。平面光柵的性能指標有:衍射波前、光柵分辨率、衍射效率、雜散光和鬼線。衍射波前是全部影響平面光柵性能參數的綜合反映,包括槽形、雜散光、鬼線及基片像差。
平面光柵的衍射波前直接決定了光譜質量和分辨本領,而且從波面形狀可以判斷有無鬼線及鬼線的種類。測量平面光柵衍射波前及波前像差,實質上是利用一個標準平面或球面波與實際波面相比較。干涉法檢測平面光柵是一種傳統方法,由于用到的裝置較多,測量結果很難精確。
實用新型內容
本實用新型公開了一種平面衍射光柵衍射波前檢測系統,可以有效克服現有技術在對平面光柵衍射波前檢測時測量精度不夠和平面光柵位置不易調整,且費時費力的缺陷。本實用新型利用現代高科技產品ZYGO干涉儀在分辨率,抗干涉能力和測量精度方面的優異性能,并配合標準反射鏡的使用,可使平面光柵衍射波前測量在測量精度方面得到極大改善。
本實用新型的技術方案是這樣實現的:
一種平面衍射光柵衍射波前檢測系統,包括:平面衍射光柵衍射波前檢測裝置、平面光柵正級次衍射波前檢測的入射光與衍射光光路、平面光柵負級次衍射波前檢測的入射光與衍射光光路;
A)所述的平面衍射光柵衍射波前檢測裝置包括:ZYGO干涉儀、計算機、標準平面透鏡、旋轉平臺、平面反射鏡,平面光柵;其中標準平面透鏡安裝在ZYGO干涉儀上,ZYGO干涉儀內置激光儀,通過數據線與計算機連接,平面光柵置于旋轉平臺上,旋轉平臺上的平面光柵與平面反射鏡置于光路中;
B)平面光柵正級次衍射波前檢測的入射光與衍射光光路:激光從ZYGO干涉儀中的激光器射出,經標準平面透鏡后,與旋轉平臺上平面光柵的法線構成入射角,所述旋轉平臺上平面光柵的入射角等于衍射角;
C)平面光柵負級次衍射波前檢測的入射光與衍射光光路,激光從ZYGO干涉儀中的激光器射出,經標準平面透鏡、平面光柵到達平面反射鏡,平面反射鏡與平面光柵衍射光垂直,衍射光作為測量波面經平面反射鏡反射,沿原路返回ZYGO干涉儀。
所述ZYGO干涉儀為GPITMXP/D型號激光干涉儀,內置的激光器為氦-氖激光器。
所述旋轉平臺上設置有轉動角度刻度值。
本實用新型利用現代高科技產品ZYGO干涉儀在分辨率,抗干涉能力和測量精度方面的優異性能,并配合標準反射鏡的使用,可使平面光柵衍射波前測量在測量精度方面得到極大改善;利用參考波面和測量波面干涉,干涉結果經軟件處理得到平面衍射光柵不同級次的衍射光的波前;整個檢測系統結構簡單、設備少,檢測快,結果精確。
附圖說明
圖1為本實用新型平面衍射光柵衍射波前檢測系統結構示意圖;
圖2為本實用新型進行平面光柵正級次衍射波前檢測時入射光與衍射光光路示意圖;
圖3為本實用新型進行平面光柵負級次衍射波前檢測時入射光與衍射光光路示意圖。
1、計算機,2、ZYGO干涉儀,3、標準平面透鏡,4、旋轉平臺,5、平面反射鏡,6、平面光柵。
具體實施方式
以下結合附圖和實施例對本實用新型進行詳細說明。
一種平面衍射光柵衍射波前檢測系統如圖1所示,包括:平面衍射光柵衍射波前檢測裝置、平面光柵正級次衍射波前檢測的入射光與衍射光光路、平面光柵負級次衍射波前檢測的入射光與衍射光光路;
A)所述的平面衍射光柵衍射波前檢測裝置包括:計算機1、ZYGO干涉儀2、標準平面透鏡3、旋轉平臺4、平面反射鏡5,平面光柵6;ZYGO干涉儀2為GPITMXP/D型號激光干涉儀,內置激光器為氦-氖激光器;通過數據線與計算機1連接,標準平面透鏡3安裝在ZYGO干涉儀2上,平面光柵6置于旋轉平臺4上,旋轉平臺上設置有轉動角度刻度值,旋轉平臺上的平面光柵與平面反射鏡5置于光路中;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海理工大學,未經上海理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201220303293.7/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





