[實用新型]一種掩膜板自動清潔系統及曝光設備有效
| 申請號: | 201220296951.4 | 申請日: | 2012-06-19 | 
| 公開(公告)號: | CN202649668U | 公開(公告)日: | 2013-01-02 | 
| 發明(設計)人: | 羅麗平;贠向南;許朝欽;金基用;周子卿;孫增標;路光明 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 | 
| 主分類號: | G03F1/82 | 分類號: | G03F1/82;G03F7/20;B08B5/00 | 
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 韓國勝 | 
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 掩膜板 自動 清潔 系統 曝光 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及顯示技術領域,特別是涉及一種掩膜板自動清潔系統及曝光設備。
背景技術
近年來,隨著科技的發展,液晶顯示器技術也隨之不斷完善。TFT-LCD(Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display,薄膜場效應晶體管-液晶顯示器)以其圖像顯示品質好、能耗低、環保等優勢占據著顯示器領域的重要位置。
在TFT-LCD生產工藝過程中,需要采用掩膜板(mask)對基板進行掩膜曝光作業。掩膜板表面的清潔度直接影響掩膜曝光效果,而現有技術中,對掩膜板的清潔通常采用人工清潔的方式,這種方式清潔掩膜板不僅耗費的時間較長,并且掩膜板表面清潔的也不夠干凈,很難達到預期要求。另外,人工清潔掩膜板的方式很容易將掩膜板的表面劃傷,對后續工藝作業造成一定的影響,進而影響最終產品的良率。
實用新型內容
(一)要解決的技術問題
本實用新型要解決的技術問題是提供一種掩膜板自動清潔系統及曝光設備,以克服現有的采用人工方式對掩膜板進行清潔導致的清潔效果差、耗時長,且容易損傷掩膜板表面造成影響最終產品良率等缺陷。
(二)技術方案
為了解決上述技術問題,本實用新型一方面提供一種掩膜板自動清潔系統,包括:
掩膜板存儲裝置,用于存儲掩膜板;
機械手,用于搬運所述掩膜板;
微粒檢測裝置,位于所述掩膜板存儲裝置的上方,用于對所述掩膜板的上下表面進行掃描,并將掃描信息發送給控制裝置;
掩膜板清潔裝置,位于所述掩膜板存儲裝置的上方并與所述微粒檢測裝置一體形成封閉的清潔腔室,所述掩膜板清潔裝置用于清潔經所述微粒檢測裝置檢測后的掩膜板;
控制裝置,用于根據接收到的掃描信息控制所述掩膜板清潔裝置的開啟/閉合;
電氣提供裝置,用于提供動力能源。
進一步地,所述掩膜板存儲裝置內部沿縱向方向相對設置有多個用于存儲掩膜板盒的支撐柱,所述掩膜板盒內存放掩膜板。
進一步地,所述微粒檢測裝置包括位于掩膜板上表面和下表面的條形微粒掃描器,所述條形微粒掃描器位于所述微粒檢測裝置的入口方向。
進一步地,所述掩膜板清潔裝置包括位于掩膜板上表面和下表面的風刀,所述風刀內置離子風發射端,向所述掩膜板的表面吹送離子風,所述風刀設置在遠離所述微粒檢測裝置的入口方向的一側。
進一步地,所述風刀與水平面呈30-60°夾角設置。
進一步地,所述掩膜板清潔裝置還包括至少兩個排氣裝置,所述排氣裝置分別安裝在掩膜板上下表面所在的空間,所述排氣裝置遠離風刀。
進一步地,所述排氣裝置為條形,且與水平面呈30-60°夾角設置。
進一步地,所述清潔腔室的底部和頂部分別設有靜電除塵裝置。
進一步地,所述控制裝置通過可編程邏輯控制器集成,分塊對掩膜板自動清潔系統中各裝置進行控制
另一方面,本實用新型還提供一種曝光設備,包括上述的掩膜板自動清潔系統。
(三)有益效果
上述技術方案具有如下優點:本實用新型提供的掩膜板自動清潔系統及曝光設備,可自動對掩膜板進行清潔,提高清潔效率;清潔過程簡單、快速,并且清潔效果好,同時該清潔系統操作簡便,可節省大量人力成本。
附圖說明
圖1為本實用新型實施例掩膜板自動清潔系統結構示意圖;
圖2為本實用新型實施例掩膜板自動清潔系統中掩膜板搬運過程示意圖;
圖3為本實用新型實施例掩膜板自動清潔系統中微粒檢測裝置結構及微粒檢測示意圖;
圖4為本實用新型實施例掩膜板自動清潔系統中清潔裝置風刀結構示意圖;
圖5為本實用新型實施例掩膜板自動清潔系統中清潔過程中氣流方向示意圖;
圖6為本實用新型實施例掩膜板自動清潔系統中清潔腔室靜電除塵裝置結構示意圖;
圖7為本實用新型實施例掩膜板自動清潔系統中靜電除塵裝置安裝位置及吸附微粒示意圖。
其中:1:掩膜板存儲裝置;11:支撐柱;21:第一機械手;22:第二機械手;23:第三機械手;3微粒檢測裝置;31:條形微粒掃描器;4:掩膜板清潔裝置;41:風刀;42:排氣裝置;43:靜電除塵裝置;5:掩膜板;A:掩膜板上表面;B:掩膜板下表面;6:掩膜板運輸車。
具體實施方式
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





