[實用新型]立式鍍膜設備

有效

• 申請號: 201220284581.2
• 申請日: 2012-06-15
• 公開（公告）號: CN202688422U
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發明（設計）人: 楊憲杰
• 申請（專利權）人: 楊憲杰
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56;C23C14/54
• 代理公司: 深圳市國科知識產權代理事務所(普通合伙) 44296
• 代理人: 陳永輝

1.一種立式鍍膜設備，其特征在于，包括：

殼體，殼體內部設有容置空間；

第一收放卷，設于殼體內用于繞制待鍍膜金屬板材并通過旋轉釋放金屬板材；

第二收放卷，設于殼體內用于接收已鍍膜金屬板材并旋轉回收于收放卷上；

靶材，分別設于金屬板材運行路徑的兩側用于對金屬板材進行磁控濺射鍍膜；

浮動輥，設于金屬板材的運行路徑上用于提供金屬板材的恒定的張緊度；

其中，所述的殼體為立式殼體，所述的第一收放卷和第二收放卷設于殼體內部下方，所述的第一收放卷和第二收放卷上方分別設置第一導向輥和第二導向輥，所述的浮動輥設于第一收放卷、第二收放卷、第一導向輥和第二導向輥之間的位置，所述的封閉艙設于金屬板材由第一導向輥經浮動輥到第二導向輥形成的U形路徑范圍中，金屬板材由第一收放卷經第一導向輥到浮動輥形成的U形路徑范圍中和金屬板材由浮動輥經第一導向輥到第二收放卷形成的U形路徑范圍中分別設置一組靶材。

2.如權利要求1中任一項所述的立式鍍膜設備，其特征在于：所述的殼體上設有檢測浮動輥的升降對收放卷的轉速進行微調傳感器。

3.如權利要求2所述的立式鍍膜設備，其特征在于：所述的浮動輥設于一垂直的浮動輥支架上，浮動輥可相對于浮動輥支架垂直運動。

4.如權利要求3所述的立式鍍膜設備，其特征在于：所述的殼體內中部還設有用于減少殼體內無效空間的封閉艙,封閉艙兩側設有加熱器。